公開了一種用于提供投影輻射束的輻射系統。所述輻射系統包括：極紫外源（３），所述極紫外源（３）用于提供極紫外輻射（２）；以及污染物阻擋件（４），所述污染物阻擋件（４）包括多個緊密排布的箔片板（５），所述箔片板（５）用于俘獲來自輻射源的污染...

本發明一種光刻設備、控制方法以及標定方法。所述光刻設備包括襯底支撐件的位置控制系統，所述位置控制系統包括：位置測量系統，配置以確定襯底支撐件上傳感器或傳感器目標的位置；控制器，配置以基于襯底目標部分的期望位置和所確定的位置提供控制信號；...

一種用于透射圖像感應的裝置和方法，所述裝置用于感應光刻曝光設備中的空間圖像，所述裝置包括：投影系統，所述投影系統設置用于在投影系統的圖像側形成物體標記的空間圖像，所述裝置還包括檢測器，所述檢測器包括狹縫圖案，所述狹縫圖案具有設置成與空間...

本發明公開了一種光刻設備和污染物去除或防止方法。浸沒式光刻設備通過使用清潔液體進行清潔，所述清潔液體主要由超純凈水以及（ａ）過氧化氫和臭氧的混合物、或（ｂ）濃度高達５％的過氧化氫、或（ｃ）濃度高達５０ｐｐｍ的臭氧、或（ｄ）濃度高達１０ｐ...

本發明公開了一種光刻設備，所述光刻設備包括編碼器型傳感器系統，所述編碼器型傳感器系統配置用于測量光刻設備的襯底臺相對于參考結構的位置。所述編碼器型傳感器系統包括編碼器傳感器頭和編碼器傳感器目標，而所述光刻設備包括用于容納所述編碼器傳感器...

一種光刻設備，包括：　阻擋構件，所述阻擋構件設置用于在投影系統和襯底之間圍成空隙并且至少部分地將液體限制在所述空隙中，所述阻擋構件包括：　抽取器，所述抽取器用于將液體從所述阻擋構件和所述襯底之間去除，以及　板，所述板設置在所述抽取器和所...

設備內的氧化物被還原，所述設備具有腔體，所述腔體含有污染材料和氧化物，所述氧化物是污染材料的氧化物。在所述方法中，至少在腔體的一部分中提供含氫的氣體。在腔體內形成預定的最小局部氫氣壓力和預定的最大局部氧化劑壓力。在所述腔體內，保持溫度以...

一種用于確定光刻投影裝置中元件表面污染物的測量設備。該測量設備具有用于將輻射投射到至少一部分所述表面上的輻射發射器設備和用于接收來自該元件的輻射的輻射接收器設備。處理器設備與輻射接收器設備通信連接，用于得到接收輻射的一個屬性，并根據輻射...