本發明的光學測定裝置（1）具備：時序產生器（70）；光源（11）；檢測光學系統（20），其檢測包含熒光及散射光的檢測光，并輸出檢測信號；頻率轉換電路（45），其通過將檢測信號、與自時序產生器（70）輸入的第2頻率信號相乘，產生第1頻率信...

發光器件具有作為發光部的活性層和相位調制層（15）。相位調制層（15）與活性層光學耦合，包含基本層和折射率與基本層不同并在與厚度方向垂直的面內呈二維狀分布的多個不同折射率區域。相對于假想的晶格的對應的晶格點，各不同折射率區域的重心以與規...

本發明提供一種拍攝系統，具備：X射線源，其對中空狀的試樣照射X射線；拍攝元件，其進行拍攝透過上述試樣的上述X射線的TDI(time?delay?integration)動作；旋轉部，其通過使上述試樣相對于上述X射線源及上述拍攝元件進行相...

本公開的光檢測裝置中，處理部對多個信道的各個設定閾值，基于多個信道各自的閾值及第1信號與第2信號間的差分，確定第1信號或第2信號中包含噪聲的信道。閾值對于多個信道的各個，基于第1信號及第2信號而設定。

本公開的光檢測裝置中，處理部對多個信道的各個設定閾值，基于多個信道各自的閾值及第1信號與第2信號間的差分，確定第1信號或第2信號中包含噪聲的信道。閾值基于差分值而設定。差分值包含：信道中的第1信號的值、與接近該信道的第1接近信道中的第1...

一種激光加工裝置，其中，具備控制部，控制部執行下述處理：第一處理，以第一加工條件來控制所述照射部，該第一加工條件被設定為：通過對晶圓照射激光而在晶圓的內部形成第一改質區域；及第二處理，在第一處理之后，基于從已檢測出光的攝像部輸出的信號，...

一種發光器件，其具備：發光部；相位調制層，其與上述發光部光學耦合，上述相位調制層具有基本層、和折射率與上述基本層不同且在與該相位調制層的厚度方向交叉的第一面內分布的多個不同折射率區域，在上述相位調制層中，根據多個上述不同折射率區域的配置...

法布里?珀羅干涉濾光器包括：具有第一反射鏡部的第一層疊體；和第二層疊體，其具有隔著空隙與第一反射鏡部相對的第二反射鏡部。作為第一層疊體和第二層疊體中的一者的參照層疊體具有第一低電阻層、第二低電阻層和配置在第一低電阻層與第二低電阻層之間的...

本公開的試樣支承體是用于電離試樣的試樣支承體。試樣支承體具備基板，該基板具有第一表面、與第一表面相反的一側的第二表面、以及至少在第一表面開口的不規則的多孔質結構。多孔質結構由相互連結的多個大顆粒、和具有比大顆粒小的直徑的多個小顆粒形成。...

本發明涉及激光加工頭以及激光加工裝置。激光加工頭具備：殼體；第一鏡，其反射激光；板型的第二鏡，其反射被第一鏡反射的激光的一部分，并使被第一鏡反射的激光的另一部分透過；聚光部，其將激光的一部分聚光于對象物；光檢測部，其檢測激光的另一部分；...

一種光學相干斷層掃描（OCT）系統包括寬帶光源和照明光學器件，將生成的寬帶光投射到樣品上。光在樣品內部沿垂直于樣品表面的方向散射，以形成樣品光束；并且從樣品頂面沿垂直于樣品表面的方向反射，以形成參照光束。樣品光束和參照光束共傳播。收集光...

觀察裝置（1A）是對觀察對象物（S）進行觀察的裝置，具備：光源（11）、分束器（12）、鏡（13、14）、分束器（15）、調制部（21）、透鏡（31～34）、攝像部（41）以及處理部（42）。調制部（21）輸入從鏡（13）到達的第一分支...

觀察裝置（1A）是觀察移動的觀察對象物（S）的裝置，具備：光源（11）、分束器（12）、鏡（13、14）、分束器（15）、調制部（21）、透鏡（31～34）、攝像部（41）以及處理部（42）。調制部（21）輸入從鏡（13）到達的第一分支...

本發明的干涉觀察裝置具備：光源，其輸出光；干涉光學系統，其具有參照鏡，將從光源輸出的光分割成第一光及第二光，并輸出被觀察對象物反射的第一光和被參照鏡反射的第二光的干涉光；攝像元件，其檢測干涉光；處理部，其基于攝像元件的檢測結果取得干涉圖...

本發明的顯微鏡裝置具備：配置部，其供試樣配置；束照射部，其用于對配置于所述配置部的所述試樣照射聚焦離子束；激光輸出部，其用于輸出超短脈沖的激光；激光照射部，其用于將自所述激光輸出部輸出的所述激光照射至配置于所述配置部的所述試樣；及顯微鏡...

一個實施方式的試樣支承體是用于電離試樣的試樣支承體。試樣支承體具備基板，該基板具有第一表面、與第一表面相反的一側的第二表面、以及至少在第一表面開口的不規則的多孔質結構。多孔質結構由相互連結的多個顆粒形成。多個顆粒中構成第一表面的顆粒具有...

本發明的試樣支承體用于試樣的離子化。試樣支承體具備：多孔質基板，其包含：第1表面、與第1表面為相反側的第2表面、以及不規則地分布且至少在第1表面開口的空隙。多孔質基板包含：包含第1表面的一部分的測定區域、以及從垂直于第1表面的方向觀察時...

本發明的顯微鏡裝置的使用方法包含：第1工序，其將試樣配置于腔室內；第2工序，其通過進行所述腔室內的排氣而將所述腔室內減壓；第3工序，其在所述第1工序及所述第2工序之后，通過對所述腔室內的所述試樣經由透過激光的透過構件照射所述激光而進行燒...

本發明的檢查裝置（1）具備：載臺（10），其保持PIC（100）；PIC控制器（20），其控制PIC（100）的動作；LRG濾光器（61），其具有在規定的波長域透過率線性變化的透過特性，基于透過特性將通過波導（108）導光并自至少1個光...

光外差干涉測量裝置（1）具備光束生成部（10）、分束器（21）、鏡（31）、第一光檢測器（41）、直線偏光板（42）、第二光檢測器（51）、直線偏光板（52）、AD轉換部（60）以及計算機（70）。第一光檢測器（41）接收從直線偏光板（...