本發明公開了一種基于激光源直寫掩膜的高精密微紋理金屬蝕刻方法，通過光?材?機協同優化設計，結合等離子預處理、涂布超薄光阻掩膜、激光直寫、顯影、固化、化學蝕刻及去掩膜后處理等工藝步驟，實現了線寬≤20μm的高清晰、無鋸齒微紋理加工。采用波...