本發明涉及一種用于物體的表面處理的裝置，其帶有容納待處理的物體(12)的處理腔(14)、向物體(12)對準的用于UV輻射的輻射源(16)和用于以工作流體加載處理腔(14)的設備(24)，其中，工作流體包含至少一個惰性成分和至少一個光化學...

本發明涉及一種用于曝光基板（200）的裝置（1），所述基板具有至少一個曝光單元和掩模（100），所述曝光單元包括用于電磁輻射的輻射發生器（2），并且具有掩模（100），所述掩模對所述電磁輻射來說至少局部是透明的，以用于將包含在掩模中的結...

本發明涉及一種用于使聚合物層（12）輻射硬化的UV輻射設備，所述UV輻射設備具有布置在載體表面（22）上的LED裝置（24），所述LED裝置包括多個在UV范圍內進行發射的、無外殼的LED芯片（26），其中所述LED芯片（26）形成至少一...

本發明涉及一種用于電暈處理印張形扁平材料（３０）的裝置和方法，該裝置具有一個用于輸送扁平材料的可旋轉的輥形輸送電極（１）、一個在扁平材料（３０）的處理間隙（３１）限制下設置在輸送電極（１）對面的處理電極（２ａ，２ｂ）、一個用于在處理電極...