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        晶萊特有限公司專利技術

        晶萊特有限公司共有1項專利

        • 一種用于合成碳納米材料的新工藝,其通過在環(huán)境壓力和50°C至150°C的范圍內(nèi)的起始溫度下,在氫提取劑、離子鹽和溶劑存在的情況下,將含氧碳源進行熱化學還原。所述碳納米材料選自下述的組中:具有1D結構、2D結構或3D結構的納米結晶碳,石墨...
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