本技術公開了一種氣相沉積設備，包括反應系統，所述反應系統上設置有控流機構，所述控流機構包括控制套、活動倉、控制塊、通孔、轉動套、配合套、螺桿和推套，控制套安裝在反省系統進入端，活動槽設置在控制套內，控制塊設置有多組滑動在活動倉內，通孔設...

本技術公開了一種半導體單晶爐，包括爐體，所述爐體上設有封蓋，所述封蓋上設置有泄壓機構，所述泄壓機構包括泄壓套、泄壓孔、中心桿、密封套、滑孔、封桿、漏孔、施壓板、密封環、固定套、限位套和施壓簧，泄壓套安裝在封蓋上，泄壓孔設置有多組分布在泄...