本實(shí)用新型公開了一種硅片冷卻盤，涉及硅片冷卻技術(shù)領(lǐng)域，包括冷卻盤，冷卻盤上表面的中部開通有用于對(duì)硅片進(jìn)行輔助冷卻的通氣孔，通氣孔的數(shù)量為若干個(gè)，且若干個(gè)通氣孔呈環(huán)形陣列形式排列，冷卻盤上表面的邊緣處固定連接有第一弧形塊，冷卻盤下表面的邊...

本實(shí)用新型公開了一種晶圓接觸塊，具體包括裝置環(huán)，裝置環(huán)的內(nèi)側(cè)壁固定安裝有支撐環(huán)，支撐環(huán)的內(nèi)側(cè)壁固定安裝有環(huán)形板，環(huán)形板的上表面滑動(dòng)連接有活動(dòng)環(huán)，環(huán)形板的內(nèi)側(cè)壁固定安裝有接觸板，接觸板的上表面固定安裝有限位環(huán)，限位環(huán)的上表面固定安裝有限位...

本實(shí)用新型公開了一種硅片鍍膜托盤，涉及鍍膜托盤技術(shù)領(lǐng)域，具體包括托盤，托盤的上表面開設(shè)有放置槽，放置槽的數(shù)量為三個(gè)，托盤的上表面開設(shè)有拿取槽，拿取槽的數(shù)量為三個(gè)，該硅片鍍膜托盤，通過通孔、固定管、支撐吸盤、密封圈的設(shè)置，傳統(tǒng)對(duì)硅片的固定...

本實(shí)用新型公開了一種硅片加工載具，涉及硅片加工技術(shù)領(lǐng)域，具體包括工裝底座，工裝底座的上表面設(shè)有對(duì)硅片進(jìn)行放置的放置槽，工作底座的上表面靠近放置槽處設(shè)有對(duì)硅片進(jìn)行固定的固定組件，工裝底座的兩側(cè)均開設(shè)有放取操作開口；該硅片加工載具，通過固定...

本實(shí)用新型公開了一種雙面打孔硅電極加工治具，涉及打孔硅電極加工治具技術(shù)領(lǐng)域，具體包括底座，底座的上表面兩側(cè)均通過螺栓固定安裝有支撐坐，支撐坐的兩側(cè)均固定安裝有矩形板，矩形板的上表面開設(shè)有圓弧槽，圓弧槽的內(nèi)弧壁上卡接有螺栓，并與其相適配，...

本實(shí)用新型公開了一種大行程加工中心的輔助操作平臺(tái)，涉及操作平臺(tái)技術(shù)領(lǐng)域，具體包括機(jī)床，機(jī)床的上表面開設(shè)有排屑槽，機(jī)床通過排屑槽滑動(dòng)連接有延伸板，機(jī)床的一側(cè)固定連接有齒板，延伸板的一側(cè)設(shè)有對(duì)延伸板進(jìn)行限制的限位組件；該大行程加工中心的輔助...

本實(shí)用新型公開了一種硅電極化學(xué)清洗用治具，涉及硅電極化學(xué)洗凈技術(shù)領(lǐng)域，包括框架板一，所述框架板一的外側(cè)設(shè)置有框架板二，所述框架板一和框架板二之間設(shè)置有中間隔板一、加強(qiáng)板一和加強(qiáng)板二，所述中間隔板一的底端開設(shè)有隔槽，所述中間隔板一靠近框架...

本實(shí)用新型涉及硅加工技術(shù)領(lǐng)域，且公開了一種用于硅部件加工的固定裝置，包括工作臺(tái)，所述工作臺(tái)的上端設(shè)置有基板和控制器，所述基板的內(nèi)部設(shè)置有靜電吸盤和導(dǎo)電陶瓷，所述基板的外側(cè)設(shè)置有導(dǎo)線。該用于硅部件加工的固定裝置，操作簡單，便于產(chǎn)品拿取，不...