本發明提供一種以計算機執行的雙態制造數據處理方法及系統及所制造的集成電路產品。該雙態制造數據處理方法包含如下步驟：建立一種數據分析樣態。從各種來源收集制造數據，并將所述制造數據分類成至少兩種預定類別數據型態。分析所述數據型態的其中一種的...

本發明揭露一種過濾制程數據的方法及其系統，用以過濾送到一統計控制模型的制程數據，以提升該控制模型的性能。該數據過濾器從一組制程數據中選取一組樣版數據、形成包括該組樣版數據以及一組采樣數據的一組網格、并計算出該組網格中的一網格的每一點間的...

本發明是有關于一種微影制程的曝光裝置及方法，該微影制程的曝光裝置，至少包括可變聚焦元件。可變聚焦元件可包含在電場存在下可被變形的透明膜。透明膜的變形可允許放射光束的焦距作調整。在一實施例中，可調整可變聚焦元件，藉以提供曝光目標上的第一位...

本實用新型提供了一種具有雙嵌附層的減光型相移光罩，其包括：一透明基底；一透光性嵌附層覆蓋于透明基底上；以及一穩定性嵌附層覆蓋于透光性嵌附層上，透光性嵌附層與穩定性嵌附層構成一雙嵌附層，其中穩定性嵌附層的化學穩定性比透光性嵌附層佳，雙嵌附...

本實用新型提供一種浸潤式光刻系統。該光刻系統由一個光學表面、一個與光學表面的一部分接觸且ｐＨ值小于７的浸潤流體、以及一個上表面形成有光阻層的半導體結構所構成，其中該光阻層的部分表面與浸潤流體接觸。本實用新型提供的光刻系統，不僅提高了分辨...

本發明揭露一種光罩組合及應用此光罩組合制造接觸洞（Ｃｏｎｔａｃｔ　Ｈｏｌｅ）的方法，其是在形成半導體元件的接觸洞時，利用構裝光罩（Ｐａｃｋｅｄ　Ｍａｓｋ）及解除光罩（Ｕｎｐａｃｋｅｄ　Ｍａｓｋ）的組合，以構裝與解除（Ｐａｃｋｉｎｇ　Ａｎ...

本發明揭露一種交替式相移光罩（ＡｌｔｅｒｎａｔｉｎｇＰｈａｓｅ－ＳｈｉｆｔｉｎｇＭａｓｋ；ＡｌｔＰＳＭ）及其相對應的解除光罩（ＵｎｐａｃｋｉｎｇＭａｓｋ），以及利用構裝的交替式相移光罩與解除光罩，以構裝及解除（ＰａｃｋｉｎｇＡｎ...

本發明公開了一種抗靜電光罩（ｒｅｔｉｃｌｅ）的制造方法，其依藉在光罩制造過程中，采用馬南根尼干燥技術（Ｍａｒａｎｇｏｎｉ　ｄｒｙｅｒ）進行干燥處理并將抗靜電材料加入異丙醇（ＩＰＡ），以在干燥處理期間同時于光罩表面上涂布形成一抗靜電層作為...

本發明公開了一種可裝設數塊光罩的光罩支架及微影曝光系統。一種可裝設數塊光罩的光罩支架，具有復數個窗口，可裝設復數個光罩，以進行微影曝光程序，并在晶圓上定義由這些光罩所組合成的曝光結合區域，其中在每一個光罩的側邊上具有微調裝置，可在裝設光...

一種光罩平放裝置，在第一實施例中，光罩平放裝置，同時容置兩并排的兩光罩，并排后長邊沿著掃描方向，因此，第一次照光后，晶圓的相鄰像場被使用以不同的光罩照光，在第二次照光時，再將每一像場補以另一光罩照光，而達到每一像場皆使用兩個光罩照光的效...

本發明提供一種消除微影制程中線末端變短效應的方法，其步驟為：（１）曝光此感光層于第一罩幕下，其中將感光層所欲形成的圖案上的每一條線或開口的末端往外延伸一第一延長部分所形成的圖案，即為第一罩幕的圖案；（２）曝光此感光層于第二罩幕下，其中第...

本發明是一種防止靜電破壞的光罩，首先在光罩的鉻金屬接近邊緣處形成一環形圖案，其中該環形圖案具內封環，與彼此相隔等距且與內封環成平行排列的復數個分離外封環。而，內、外封環間具有復數個微細小針，每一微細小針的一端分別和內、外封環的其中的一連...

本發明揭露一種光罩組合，包括：一第一光罩，具有平行且交錯排列的復數相位０度透光區與復數相位１８０度透光區；以及一第二光罩，具有一透明基底與一條狀遮光層，其中上述條狀遮光層覆蓋于上述透明基底部分表面，上述條狀遮光層的寬度不小于上述相位０度...

一種曝光裝置及曝光方法。為提供一種降低制程成本、提高光罩上透明板光學性質、適用于短波長光源的半導體制造設備及方法，提出本發明，其曝光方法包括提供光罩，并將保護蓋固定于光罩表面；將覆蓋保護蓋的光罩移入曝光準備室內部；于曝光準備室內部拆除保...

本發明涉及一種曝光系統及其曝光方法，利用在欲曝光的晶片與鏡頭之間提供一液體，以提高曝光路徑的折射率。此曝光系統至少包括：一液體槽，用以承載液體；一晶片支撐裝置，設置于液體槽內部，用以支撐晶片，使得晶片表面與液體接觸；以及一曝光裝置，具有...

一種光罩保護膜的卸除裝置，其特征在于，至少包括：　　　　一底座元件，該底座元件上具有至少一滑動軸；　　　　至少一承載與固定元件，該至少一承載與固定元件置于該底座元件上，且用以承載及固定具有一光罩保護膜的一光罩；　　　　至少一把手固定元件...

本發明涉及一種防止產生光阻殘渣的方法。至少包括：提供一基底，在基底上形成有一介電層；接著，在介電層上形成一無氮類抗反射層；最后，在無氮類抗反射層上形成一光阻圖案層，確保期間無氮類抗反射層不與光阻圖案層交互作用因此不會形成光阻殘渣（ｓｃｕ...

本發明光致抗蝕劑層的顯影方法提供一種形成一光致抗蝕劑掩膜的方法。該方法包括：形成一光致抗蝕劑材料層于一晶圓上并以一光源對該光致抗蝕劑層曝光，接著對該光致抗蝕劑層顯影。在該晶圓烘干前，以一種或多種清洗液清洗晶圓。清洗液可包括表面活性劑、酸...

本案公開一種于光刻步進及掃描投影系統中實現于兩或多個失焦位置之兩或多個失焦晶片圖像之分離重疊的方法。該方法包含使掩膜板及晶片中之一個相對于掃描方向傾斜，以及將光束分開于位于該掩膜板之不同失焦區中之至少兩個發光區域。

本發明是有關于一種浸潤式微影方法，其至少包括以下步驟：形成光阻于基板上；利用由至少一百萬赫茲超音波源振動的沖洗液來沖洗光阻；當光阻浸于液體內時，將光阻曝露于放射源下；以及將光阻顯影。