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        VAT控股公司專利技術

        VAT控股公司共有150項專利

        • 閥(1),其中閥盤(5)布置在閥殼體(2)的閥殼體內部空間(6)中并且固定在軸(7)上,其中,閥盤(5)與軸(7)一起沿平行于軸縱向軸線(9)的方向(8)在關閉位置和中間位置之間來回移動,并且可通過使得軸(7)繞軸縱向軸線(9)旋轉而在...
        • 本發明涉及一種用于以氣密方式打開和閉合閥開口(11)并且用于使真空容積通風的閥(10),該閥具有閥座(30)、閉合元件(20)以及調節單元(40),所述調節單元被設計成提供所述閉合元件(20)相對于所述閥座(30)的移動,使得所述閉合元...
        • 一種用于真空密封地封閉壁(3)上的開口(2)的封閉裝置的閥板,所述閥板(1)在其前側具有用來相對于所述壁(3)密封的密封圈(8),并且在其后側具有用于與所述封閉裝置的閥桿(4)連接的凹陷(29)。布置在所述閥板(1)的后側上的所述凹陷(...
        • 公開了一種用于基本上氣密關閉第一閥口(31)的真空閥(10),包括閥座(30)、用于基本上氣密關閉第一閥口(31)的關閉件(20)和用于提供關閉件(20,120)相對于閥座(30,130)的運動的驅動單元(40)。關閉件(20)被設計成...
        • 本發明涉及閥,所述閥具有閥殼和閥開口并且具有關閉機構和至少一個閥驅動器,其中所述閥附加地具有兩個彼此相對布置的法蘭,每個法蘭具有通孔,其中所述法蘭能夠通過所述至少一個閥驅動器朝向彼此和遠離彼此地移動,并且在所述關閉機構沿著所述第一移動方...
        • 一種升降裝置,用于在工藝腔室中將襯底降低到襯底載體上以及將襯底抬離襯底載體,其中,升降裝置具有升降桿和使升降桿沿直線升降運動路徑來回運動的升降桿線性驅動器,并且具有多個調節螺栓,用于調節升降運動路徑的位置,其中,升降裝置具有用于升降桿線...
        • 用于均化工藝室(2)中的氣體分布的設備(1),其中所述設備(1)具有屏蔽屏(3)和用于使屏蔽屏(4)在兩個彼此相反的線性移動方向(5)上在兩個端部位置之間來回移動的線性驅動器(4),其中可借助于所述設備(1)的至少一個加熱裝置(6)來加...
        • 本發明涉及一種用于以基本上氣密的方式閉合真空輸送系統的第一閥開口(31)的真空閥系統(10),真空閥系統具有:閥座組件(30),其具有限定了開口軸線的第一閥開口(31)和圍繞第一閥開口(31)的第一密封面;閉合部件(20),其用于以基本...
        • 本發明涉及一種真空閥,所述真空閥用于以氣密方式關閉用于真空輸送系統的閥開口。所述真空輸送系統具有輸送管,所述輸送管具有用于沿所述輸送管在內部輸送車輛的多個輸送管段,并且所述閥開口限定開口軸線。所述真空閥還具有:環繞所述閥開口的密封表面;...
        • 一種閥板具有板區段和至少一個縱向延伸的連接區段,在所述板區段的正側上安裝了由彈性體材料制成的密封件,所述連接區段與所述板區段通過狹縫隔開,所述連接區段用于將所述閥板固定在至少一個閥桿上。從所述板區段的背側的平面圖中看,所述連接區段的在所...
        • 一種閥板具有板區段,在板區段的正側上安裝了由彈性體材料制成的密封件,所述閥板還具有布置在所述板區段的背側上的連接裝置,用于將所述閥板與真空閥的承載裝置連接。所述連接裝置包括縱向延伸的第一和第二連接區段,其中第一連接區段位于所述板區段的縱...
        • 銷升降裝置(1),用于在工藝腔室、特別是真空工藝腔室中將襯底(2)降低到襯底載體(15)上并從所述襯底載體(15)提起所述襯底(2),其中所述銷升降裝置(1)具有至少一個升降銷保持器(4)和至少一個升降驅動器(5),用于沿線性升降運動軌...
        • 本發明涉及具有帶有真空調節閥的工藝室的真空加工系統。真空加工系統(1)包括真空室(10)和真空調節閥(20)。真空閥包括第一閥座(21a),其具有限定第一開口軸線(O)的第一閥開口(22a)和圍繞第一閥開口延伸的第一密封面,還包括第一閥...
        • 在用于密封真空閥的閥開口的至少基本上為矩形的閥板的正面上安置了由彈性體材料制成的密封圈。閥板在背面具有至少一個凹部,凹部帶有底切地構造的邊界壁,該邊界壁形成傾斜面,傾斜面可與所述承載體的傾斜面夾緊,以將所述閥板固定在承載體上。在閥板上安...
        • 一種真空閥,包括:閥殼體;封閉單元,該封閉單元具有由閥桿承載的第一和第二閥板以及在閥殼體外與閥桿剛性連接的支座;傳動單元;帶有基體和至少一個致動器的驅動單元;至少一個縱向直線引導件,傳動單元可由該縱向直線引導件相對于閥驅動器的基體平行于...
        • 本發明涉及一種高頻接地裝置和具有高頻接地裝置的真空閥。高頻接地裝置(40)與用于關閉和打開真空室系統的閥開口的真空閥連用,具有由用于排走在真空閥上出現的電荷的傳導性材料制造的接地帶(42),其中該接地帶具有第一端(41)和第二端(43)...
        • 一種用于閥的密封承載環,其中,所述密封承載環具有通流開口和環狀地圍繞所述通流開口的基體以及用于將所述密封承載環固定在所述閥的閥殼體上的固定機構,其中,所述基體具有第一側,在該第一側,所述密封承載環在完全安裝在所述閥殼體上的狀態下貼靠在所...
        • 一種真空閥或真空門,其具有用于封閉在壁(3、32)中的開口(4、29)的封閉板(7),所述開口(4、29)具有相對的第一和第二縱向邊緣(4a、4b;29a、29b)以及相比之下較短的相對的第一和第二橫向邊緣(4c、4d)。設置了密封單元...
        • 一種用于在高頻電磁場中連接引導流體的管道(2)和/或腔室(3)的裝置(1),其中,所述裝置具有兩個管道體(4、6)和波紋管(8),這些管道體分別帶有本身剛性的管道體內壁(5、7),其中,所述管道體內壁(5、7)共同地圍成用于引導流體通過...
        • 本發明涉及用于將工藝氣體可控輸入真空工藝室的進氣閥(1),其中該進氣閥包括:氣體流通單元(2),其具有進氣口(21)、出氣口(22)和自由接近所述進氣口和出氣口的內體積(23),其中該氣體流通單元具有在內體積中的密封面;具有調節單元(3...