本發明的目的在于提供一種對準器結構，以相對較大的移動尺度結束基板(S)及掩模(M)間的第1次相對移動后，以相對較小的移動尺度執行基板(S)及掩模(M)間的第2次相對移動，從而能夠實現迅速而精密的基板及掩模的對齊。本發明的對準器結構作為在...

本發明的目的是提供：一種對準器結構，通過提供用于在基板(S)和掩模(M)垂直的狀態下使基板(S)和掩模(M)固定且對準的對準結構而能夠在基板S和掩模M垂直的狀態下良好處理基板；以及一種對準方法。本發明的對準器結構包括：掩模夾緊單元(10...

本發明的目的在于提供一種對準器結構，以相對較大的移動尺度結束基板(S)及掩模(M)間的第1次相對移動后，以相對較小的移動尺度執行基板(S)及掩模(M)間的第1次相對移動，從而能夠實現迅速而精密的基板及掩模的對齊。本發明的對準器結構作為在...

本發明的目的在于提供一種原子層沉積裝置及原子層沉積系統，在把多個矩形基板支撐于一個基板支撐部的狀態下，借助相對于氣體噴射部的相對旋轉而在基板表面形成薄膜，從而能夠減小裝置的安裝空間，顯著提高生產速度；本發明提供一種原子層沉積裝置，包括：...