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        維得科技杭州有限公司專利技術

        維得科技杭州有限公司共有1項專利

        • 本發明涉及半導體技術領域,尤其是涉及一種單向低容大回掃ESD芯片的制備方法,其包括選取N+襯底并生長N?外延層、通過埋層工藝和摻雜形成垂直結構SCR器件、利用深槽隔離技術和金屬連接優化芯片性能。本發明能夠通過垂直結構設計縮小芯片尺寸,提...
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