本發明涉及锍鹽、化學增幅正型抗蝕劑組成物及抗蝕劑圖案形成方法。本發明的課題為提供：在使用高能射線的光學光刻中，溶劑溶解性良好，且分辨性、LER、圖案形狀等光刻性能優異的化學增幅正型抗蝕劑組成物；以及使用該化學增幅抗蝕劑組成物的圖案形成方...

本發明涉及錪鹽、化學增幅正型抗蝕劑組成物及抗蝕劑圖案形成方法。本發明提供使用高能射線的光學光刻中，溶劑溶解性良好且分辨性、LER、圖案形狀等光刻性能優異的化學增幅正型抗蝕劑組成物、及使用該化學增幅抗蝕劑組成物的圖案形成方法。一種下式(A...

本發明涉及有機膜形成用組成物、有機膜形成方法、圖案形成方法及化合物。本發明的課題為提供成膜性(面內均勻性)及填埋特性優良，且會抑制突起，而且制程寬容度優良的有機膜形成用組成物。該課題的解決手段為一種有機膜形成用組成物，含有：有機膜形成用...

本發明涉及有機膜形成用組成物、有機膜形成方法、圖案形成方法、及聚合物。本發明的課題為提供作為膜形成材料用的聚合物。又，提供含有該聚合物的有機膜材料組成物及有機膜形成方法。又，提供使用了運用該有機膜形成用組成物的抗蝕劑膜的圖案形成方法。該...

本發明涉及鎓鹽單體、單體型光酸產生劑、聚合物、化學增幅抗蝕劑組成物及圖案形成方法。本發明是一種鎓鹽單體，其特征在于，為下述通式(A)表示者。借此，提供在使用高能量射線的光學光刻中，光刻性能優良的化學增幅抗蝕劑組成物所使用的鎓鹽單體。[化...

本發明涉及鎓鹽、化學增幅抗蝕劑組成物及圖案形成方法。本發明提供作為在使用高能射線的光學光刻中，溶劑溶解性優異、高感度、高對比度且光刻性能優異化學增幅抗蝕劑組成物中含有的光酸產生劑使用的鎓鹽、由該鎓鹽構成的光酸產生劑、含有該光酸產生劑的化...

包含（A）由下述式（1）表示的有機硅樹脂的二烯系橡膠用配合劑在添加于橡膠組合物中的情況下，在不會使組合物的加工性、耐磨損性能、低油耗性能惡化的情況下給予可實現所需的硬度、拉伸特性和耐久性的橡膠組合物。（SiO4/2）a（R1SiO3/2...

分散體，其含有下述（A）～（D）成分，不僅剛制造后的分散性而且粘度穩定性（分散穩定性）良好。（A）25℃下運動粘度為1～100mm2/s的不揮發性油劑：15～65質量%，（B）粉體：30～70質量%，（C）在（A）成分中溶解的分散劑：1...

本發明涉及鎓鹽、光酸產生劑、化學增幅抗蝕劑組成物及圖案形成方法。本發明為下述通式(A)表示的鎓鹽單體。借此可實現展現優良的溶劑溶解性、高感度、及高酸擴散抑制能力，并借此展現優良的光刻性能的化學增幅抗蝕劑組成物。[化1]式中，位在相對于S...

本發明為形成具有氮空位中心的金剛石晶體層的金剛石襯底的制造方法，其用CVD法并用包含烴氣與氫氣的原料氣體在基底襯底上形成金剛石晶體，其中，為了在金剛石晶體的至少一部分形成具有氮空位中心的金剛石晶體層，將氮氣或氮化物氣體混入原料氣體，同時...

本發明涉及鎓鹽、光酸產生劑、化學增幅抗蝕劑組成物、及圖案形成方法。本發明的課題為提供在使用高能射線的光學光刻中，溶劑溶解性優良，為高感度、高對比度，且光刻性能優良的化學增幅抗蝕劑組成物中所含的使用作為光酸產生劑的鎓鹽、由該鎓鹽構成的光酸...

本發明涉及锍鹽型單體、锍鹽型淬滅劑、聚合物、化學增幅抗蝕劑組成物、及圖案形成方法。本發明的課題為提供在使用高能射線的光學光刻中，溶劑溶解性優良，為高感度、高對比度，且光刻性能優良，同時即使在微細圖案形成時，圖案崩塌耐性強，蝕刻耐性亦優良...

本發明涉及锍鹽型單體、锍鹽型淬滅劑、聚合物、化學增幅抗蝕劑組成物及圖案形成方法。本發明提供在使用高能射線的光學光刻中，溶劑溶解性優異、高感度、高對比度、光刻性能優異而且即使是微細圖案形成時仍耐圖案崩塌、蝕刻耐性也優良的化學增幅抗蝕劑組成...

本發明涉及锍鹽型單體、聚合物、化學增幅抗蝕劑組成物及圖案形成方法。本發明的課題為提供在使用高能射線的光學光刻中，溶劑溶解性優良，為高感度、高對比度，且EL、LWR、CDU、DOF等光刻性能優良的化學增幅抗蝕劑組成物所使用的锍鹽型單體、含...

本發明提供反射型空白掩膜及其制造方法，所述反射型空白掩膜能夠以較低的成本且較高的產出量制作基準標記，并能夠提升檢測器檢測位置的精度。該反射型空白掩膜的特征在于，至少具備：基板、設置于該基板上且反射曝光光線的多層反射膜及設置于該多層反射膜...

光透過性物品，是在基材的外表面上具備由折射率不同的2種以上的材料的層疊結構構成的減反射層、在該減反射層的外表面上具備由不含氟原子的材料構成的保護層的光透過性物品，其中，保護層的有無導致的物品表面的視感反射率變化不到0.5%，下述的耐堿試...

本發明涉及含硅的抗蝕劑膜形成用組成物、及圖案形成方法。本發明為一種含硅的抗蝕劑膜形成用組成物，其形成LWR及CDU優良的超微細的抗蝕劑圖案，形成的抗蝕劑膜在和有機材料之間具有高蝕刻選擇性，且不會發生因為圖案化結束后殘存的殘渣導致缺陷的圖...

本發明涉及锍鹽型單體、聚合物、化學增幅抗蝕劑組成物及圖案形成方法。本發明的課題為提供在使用高能射線的光學光刻中，溶劑溶解性優良，為高感度、高對比度，且EL、LWR、CDU、DOF等光刻性能優良的化學增幅抗蝕劑組成物所使用的锍鹽型單體、含...

本發明涉及锍鹽型單體、聚合物、化學增幅抗蝕劑組成物及圖案形成方法。本發明的課題是在使用高能射線的光學光刻中，提供溶劑溶解性優良，為高感度、高對比度，且EL、LWR、CDU、DOF等光刻性能優良的化學增幅抗蝕劑組成物中使用的锍鹽型單體、含...

本發明涉及鎓鹽、化學增幅抗蝕劑組成物及圖案形成方法。本發明的課題是提供使用于在使用高能量射線的光學光刻中，為高感度，分辨性優良，改善EL、LWR、CDU、DOF等的光刻性能，此外可抑制抗蝕劑圖案的崩塌的化學增幅抗蝕劑組成物中的新穎鎓鹽、...