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        株式會社真空全部專利技術

        株式會社真空全部共有1項專利

        • 涉及擺式控制閥,設置在工藝腔室與真空泵之間的氣體排出通路,用于開閉所述氣體排出通路,其特征在于,包括:閥本體(110),在上部設置有與所述氣體排出通路相連通的氣體流入口(111),在下部設置有與所述真空泵相連通的氣體排出口(113);罩...
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