本技術(shù)公開了無(wú)掩模光刻領(lǐng)域中的一種光刻驗(yàn)證機(jī)臺(tái)其包括光源調(diào)節(jié)模塊,光源調(diào)節(jié)模塊包括多個(gè)可獨(dú)立調(diào)節(jié)的第一調(diào)節(jié)單元,多個(gè)第一調(diào)節(jié)單元的調(diào)節(jié)端連接有光源;鏡頭調(diào)節(jié)模塊,所述鏡頭調(diào)節(jié)模塊包括多個(gè)可獨(dú)立調(diào)節(jié)的第二調(diào)節(jié)單元,多個(gè)第二調(diào)節(jié)單元的調(diào)節(jié)端...