本文公開了一種計算機系統，所述計算機系統被配置成在對一批次襯底中的第一襯底執行光刻過程之前利用掩模版的第一多個邊緣標識和第二多個邊緣標識執行掩模版對準RA量測。掩模版變形模型依賴于所述RA量測來確定所述掩模版的形狀和/或變形。依賴于所確...

一種系統包括光刻系統的第一和第二部分、以及位于第一部分與第二部分之間的阻尼系統。所述阻尼系統包括阻尼器保持器，所述阻尼器保持器保持X方向阻尼器組和Y方向阻尼器組。

一種用于支撐和移動物體（502）的臺（500）包括電磁體（510）、第一支撐結構和第二支撐結構（504；506）、目標（508）以及目標側緩沖器結構。電磁體可以包括磁芯、線圈（512）、以及附接到磁芯的磁芯側緩沖器。設置在第一支撐結構（...

本公開提供了一種裝置，該裝置包括：至少一個用于保持襯底的襯底臺，該襯底臺被設置有用于靜電夾持所述襯底的靜電夾具；以及至少一個反射表面，用于在遠離襯底前側的方向上反射帶電粒子。一種使用方法，包括以下步驟：將至少一個襯底臺靜電夾持在襯底臺上...

本文中公開一種計算機系統，所述計算機系統被配置成使用掩模版加熱模型來確定掩模版的形狀和/或變形并依賴于所建模的形狀和/或變形來控制使用所述掩模版的光刻過程的操作。所述計算機系統被配置成依賴于所生成的掩模版過程數據和所述掩模版的已知熱性質...

一種用于代替光刻設備中的圖案形成裝置來使用的光電板（300），所述光電板包括：基底層（301）；和涂層（302），所述涂層設置在所述基底層上；其中所述涂層被配置成相較于所述基底層以更高轉換效率將EUV輻射的沖擊光子轉換成自由電子。

本文中的實施例描述了用于基于掩模版形狀測量來確定掩模版溫度的系統、方法和裝置。系統可以包括：照射路徑，所述照射路徑被配置成將輻射引導到圖案形成裝置上；和檢測路徑，所述檢測路徑被配置成在所述輻射的一部分與所述圖案形成裝置相互作用之后將所述...

本公開涉及極紫外光源中的目標擴展速率控制。一種方法，包括：提供目標材料，目標材料包括在被轉換為等離子體時發射極紫外(EUV)光的成分；朝向目標材料引導第一輻射束以向目標材料傳遞能量以修改目標材料的幾何分布以形成經修改的目標；朝向經修改的...

一種系統，包括第一容器和第二容器。第一容器接收圖案形成裝置并在第一容器內維持預定環境。第二容器接收第一容器并在第二容器內維持真空。第二容器包括凸緣、第一端和第二端。凸緣位于第二容器的外部。第二容器可以經由凸緣而被夾持和運輸。第一端包括真...

在一些總體方面，使用一種方法清潔極紫外(EUV)光源的腔室內的結構的表面。該方法包括生成存在于鄰近腔室內的非導電體的位置處的材料的等離子體狀態。該材料的等離子體狀態的生成包括在鄰近非導電體的位置處電磁感應出電流，從而將鄰近非導電體的材料...

本文中揭示了一種光刻設備，包括：照射系統，所述照射系統用于沿著射束路徑提供EUV輻射射束；用于圖案化裝置的保持器，所述圖案化裝置被配置成將圖案賦予所述輻射射束，所述圖案化裝置包括其上具有圖案的圖案化表面；和電子射束源，所述電子射束源被配...

本公開涉及一種用于操縱一個或多個帶電粒子束的電子光學堆疊及其相關裝置和方法。在一種布置中，多個電子光學板具有位于板的相對側的主表面。板限定通道集合，該通道集合被配置為沿著帶電粒子束的束路徑對準，以允許帶電粒子束經由通道穿過板。每個通道在...

本公開提供了一種真空臺，包括：臺，具有用于支撐襯底的頂表面，頂表面設置有至少兩個壓力區，每個壓力區連接到相應的真空連接器以提供降低的壓力，壓力區中的至少一個設置有跨頂表面在徑向方向上延伸的槽。相應的壓力區可以包括連接到相應的真空連接器并...

披露了一種用于生成輸出寬帶輻射的寬帶輻射源，包括串聯布置的多個超連續譜生成級，每個所述超連續譜生成級包括相應的非線性生成元件。所述多個超連續譜生成級包括至少第一超連續譜生成級和第二超連續譜生成級，在所述串聯中，所述第二超連續譜生成級在所...

一種用于在接收到泵浦輻射時生成寬帶輻射的輻射裝置，包括：光波導，所述光波導具有沿所述光波導的縱向軸線的中空芯部；其中所述光波導被配置成將所述泵浦輻射大致限制在所述中空芯部內；工作介質，所述工作介質包括具有永久偶極矩的分子，包括在所述光波...

本發明公開一種用于標示與一個或更多個機器相關的時間序列數據的方法。所述方法包括：獲得所述時間序列數據；分割所述時間序列數據以獲得根據圖案相似性分組的多個圖案；標示所述多個圖案的子集以獲得經標示的圖案子集，所述多個圖案中的剩余圖案包括未標...

公開了一種用于控制用于產生極紫外(EUV)輻射的源系統中的液滴生成器的噴嘴孔口周圍的環境的設備和方法，其中控制噴嘴孔口環境中的含氧氣體的量以減少可能潛在地干擾液滴生成器的操作的氧化物的形成。

使用帶電粒子束裝置對樣本進行成像的系統和方法被公開。該帶電粒子束裝置可以包括：帶電粒子源，該帶電粒子源被配置為生成初級帶電粒子，該初級帶電粒子形成沿主光軸的初級帶電粒子束；以及帶電粒子檢測器，該帶電粒子檢測器包括帶電粒子敏感材料的多個同...

提供了一種具有用于電子源的改進的真空腔的電子源組件。該電子源組件包括電子源，該電子源具有發射器尖端，電子在該發射器尖端處被生成。該電子源還包括真空腔，該真空腔被配置為封閉該電子源，并且包括在該真空腔的內表面上的排氣阻擋涂層。該真空腔已經...

一種載物臺，包括：基部，所述基部具有平坦表面；襯底支撐件或圖案形成裝置支撐件，所述襯底支撐件或圖案形成裝置支撐件包括夾具和一組突節，所述突節從所述夾具延伸且具有鄰近于所述基部的所述平坦表面的遠端；其中，所述載物臺還包括：順應層，所述順應...