一種用于測量襯底的測量裝置，所述測量裝置包括：光學傳感器，所述光學傳感器被配置為通過發射光束對襯底的表面進行測量；流體供應裝置，所述流體供應裝置被配置為供應調節流體，所述調節流體橫穿所述光束并在位于所述測量裝置與所述襯底的表面之間的狹縫...

公開了一種在維護動作之后執行的機器維護方法，在所述維護動作中，舊機器部件已經由替換機器部件替換。所述方法包括確定性能影響度量，所述性能影響度量描述由用所述替換機器部件替換所述舊機器部件引起的對機器性能的影響；以及降級所述替換部件，使得所...

一種用于測量襯底的參數的方法包括接收泵浦輻射。用所接收的輻射來輻照襯底上的量測目標，從而通過諧振而產生諧波產生式輻射。使用量測傳感器，檢測由量測目標所衍射的諧波產生式輻射的至少兩個相反的輻射階的強度。基于至少兩個相反的輻射階的強度以及諧...

公開了一種從樣本的臨界尺寸對缺陷概率進行建模以改進故障率預測的方法，更特別地公開了一種使用sigmoid函數對缺陷概率進行建模以改進故障預測的方法。sigmoid函數可以被用于解釋一系列可以準確地預測樣本中的故障和缺陷的形成的臨界尺寸。

本發明提供一種聚焦量測的方法。該方法包括使用檢查工具對具有由光刻工具形成的多個特征的樣品成像；確定樣品的圖像中的多個特征與設計布局相比的移位量；以及基于偏移量導出光刻工具的移位值。

一種被配置為將EUV輻射投影到襯底位置的光刻設備，該光刻設備包括：照射系統，該照射系統包括用于沿著束路徑引導EUV輻射的多個反射表面；以及IR源，該IR源被配置為產生IR輻射；其中所述IR源和照射系統被布置為使得IR輻射沿著束路徑投影。

一種光刻設備，包括：襯底支撐件，被配置為支撐襯底，該襯底支撐件包括被配置為從靠近襯底的邊緣的位置抽取流體的開口；至少一個處理系統，被配置為處理襯底，處理包括測量襯底或相對于襯底支撐件移動襯底；和控制器，被配置為控制至少一個處理系統，并向...

提供一種制造用于EUV光刻的隔膜組件的方法，其中，在限定保持表膜隔膜的表膜邊界的一個或多個蝕刻步驟之后，設置形成表膜隔膜的至少一部分的層。還提供一種表膜基底，該基底包括具有正面和背面的疊層，其中，在已經設置形成表膜隔膜的至少一部分的層之...

一種裝置包括用于夾持組件的靜電夾具和用于鄰近靜電夾具生成自由電荷的機構。用于生成自由電荷的機構被配置為在從靜電夾具的第一激發狀態到靜電夾具的第二激發狀態的轉變期間鄰近靜電夾具生成自由電荷。

描述了一種靜電夾具。所述靜電夾具包括被配置成接觸被夾持的對象的表面和聯接至所述表面的電極。所述電極被配置成逐步地激勵所述表面的部分，使得所述對象與所述表面之間的接觸跨所述表面從初始被激勵的接觸部位逐步地傳播。所述對象與所述表面之間的接觸...

一種校準光刻設備的方法，該方法包括以下步驟：獲得襯底，該襯底的楊氏模量實質上不隨襯底的平面內的限定楊氏模量的軸線的取向而變化，并設置有參考特征；將襯底夾持到光刻設備的襯底臺上；使用所述光刻設備將圖案化特征設置到所夾持的襯底，每個圖案化特...

本公開涉及一種緊固件組件，該緊固件組件包括第一墊圈（102）、第二墊圈（104）以及設置于第一墊圈和第二墊圈之間的彈簧（106），該彈簧具有彈簧常數，該彈簧被配置為基于第一墊圈相對于第二墊圈的相對位移來提供力的大小。壓縮限制器（108）...

一種用于測量襯底的變形的系統，包括：照射器、相機、調制器系統和控制器。照射器將兩個輻射束引導到被設置在襯底上的多個目標中的每個目標處，以從每個目標產生兩個散射輻射束。相機檢測來自多個目標的兩個散射輻射束的干涉圖案，并生成基于干涉圖案的干...

一種檢查系統包括輻射源、多模光纖、光學結構、二維檢測器陣列和計算裝置。所述輻射源輻照目標，以從目標生成散射輻射。所述散射輻射包括衍射階對。所述多模光纖接收散射輻射并基于所述多模光纖的傳播性質來輸出衍射階對的混合。所述光學結構在所述多模光...

一種用于確定圖案化過程的性能的方法，該方法包括：接收襯底的一部分的圖像，襯底的該部分包括第一區域和至少第二區域，第一區域包括與第一圖案化過程相關聯的第一特征，第二區域包括與第二圖案化過程相關聯的第二特征，其中，第一特征和第二特征在被輻射...

公開了一種確定諸如焦距和/或劑量之類的至少一個曝光參數的方法。所述方法包括獲得多個結構的生產量測數據；將所述生產量測數據分組成多個相鄰組，每個相鄰組描述所述結構的不同布置；獲得所述多個相鄰組中的每個相鄰組或所述多個相鄰組的不同組合的經預...

一種計算機系統，所述計算機系統被配置成依賴于處于冷狀態中的掩模版的參考數據和所述掩模版的掩模版對準量測來初始化掩模版加熱模型。在對第一批次襯底執行光刻過程時更新所述掩模版加熱模型的狀態。儲存所述掩模版加熱模型的當前狀態。生成掩模版輸送數...

一種用于產生超連續譜輻射的系統，該系統包括：泵浦光源，被配置為產生泵浦光脈沖，泵浦光脈沖具有泵浦波長；和中空芯部光子晶體光纖，被配置為接收泵浦光脈沖，中空芯部光子晶體光纖含有氣體；其中氣體和中空芯部光子晶體光纖被選擇為使得泵浦波長在與氣...

本公開涉及用于將裝置的模塊接合在一起的模塊化組件。該組件包括兩個模塊，該兩個模塊被配置為能夠相互接合，以彼此鄰接。這些模塊各自具有主體(71；72)和多個接合器(81；82)，該多個接合器各自被配置為與這些模塊中的另一模塊的對應的接合器...

本文公開了一種清潔設備，清潔設備用于清潔光刻設備的掩模版工作臺。該設備包括：襯底，襯底具有正面和與所述正面相對的背面。聚酰亞胺層被設置在襯底的正面上，并被配置為接觸掩模版工作臺以去除掩模版工作臺上的顆粒。聚酰亞胺層在其中包括自由基，以向...