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        恩特格里斯公司專利技術

        恩特格里斯公司共有636項專利

        • 本實用新型涉及一種深度過濾器,其特征在于,所述深度過濾器包括串聯的兩個或更多個層,其中至少一個層包含聚芳酰胺纖維、合成助濾劑及聚合物粘合劑。濾劑及聚合物粘合劑。濾劑及聚合物粘合劑。
        • 本實用新型描述用于過濾液體的過濾器組合件。用于過濾液體的所述過濾器組合件包含過濾器殼體及安置于所述過濾器殼體的經圍封空間中的濾筒。所述過濾器殼體包含附裝到碗狀物以形成所述經圍封空間的蓋。所述蓋包含用于所述經圍封空間的流體入口端口、流體出...
        • 本實用新型涉及一種定向氣體擴散器及設備。所述定向氣體擴散器,其特征在于所述定向氣體擴散器包括:細長殼體,所述殼體包括:入口端;封閉端;長度,其在所述入口端與所述封閉端之間;開口,其在所述殼體的正面上沿著所述長度延伸;及通道,其在所述入口...
        • 提供了相對于存在的低k介電層選擇性地蝕刻硬掩模層和/或光致抗蝕劑蝕刻殘留物的組合物和方法。更具體地,本發明涉及一種相對于低k介電層選擇性地蝕刻氮化鈦和/或光致抗蝕劑蝕刻殘留物的組合物和方法。可能存在于微電子裝置上的其它材料不應被所述組合...
        • 本發明描述離子植入裝置、系統及方法,且特定來說,本發明描述一種可用于產生鋁離子束的離子源。的離子源。的離子源。
        • 本發明描述用于從其中鍺烷(GeH4)與包含沸石咪唑骨架的固體吸附劑介質保持吸附關系的容器選擇性地施配所述鍺烷作為試劑氣體的存儲及施配系統以及相關方法。存儲及施配系統以及相關方法。存儲及施配系統以及相關方法。
        • 本實用新型涉及涂覆有抗裂氟退火膜的制品。提供與具有優異的抗等離子體蝕刻性且可延長RIE組件的使用壽命的涂層相關的制品。制品具有真空兼容襯底及覆蓋所述襯底的至少一部分的保護膜。所述膜包括含釔的氟化金屬氧化物,其中使用AC電源沉積氧化釔。所...
        • 本發明提供適用于蝕刻,即移除,已摻雜有例如硼、氯或氮的元素的非晶碳硬掩模的組合物及方法。所述組合物利用濃硫酸、水及至少一種氧化劑。在所述方法的操作中,即使在存在例如二氧化硅、氮化硅、氮化鉭及多晶硅的層的情況下,所述組合物也以良好選擇性來...
        • 本申請實施例涉及一種高壓過濾器,其包含:第一殼體及第二殼體,其具有互補漸縮表面;墊圈,其位于所述漸縮表面之間;過濾器元件,其居中地安置于所述殼體內;及壓縮軸環,其裝配在所述第二殼體上方且旋擰到所述第一殼體上。還提供制成且使用高壓過濾器的...
        • 本申請案涉及一種靜電吸盤底座。描述用于在處理工件的步驟期間支撐所述工件的靜電吸盤及通過增材制造技術制備的靜電吸盤底座組件。件。件。
        • 本申請案涉及氣體擴散器殼體、裝置及相關方法。描述定向氣體擴散器裝置,及其殼體組件;包含所述氣體擴散器裝置的系統;使用所述氣體擴散器裝置的方法;及制造氣體擴散器裝置的方法。法。法。
        • 本發明公開一種用于生物反應器的套件,其包含生物反應器袋、連接器、葉輪組合件及夾具。所述連接器界定孔。所述連接器還包含在第一端與第二端之間延伸的焊接表面,其中所述第二端包含向外延伸凸緣。所述焊接表面可熱封到所述生物反應器袋。所述葉輪組合件...
        • 本發明提供用于蝕刻微電子裝置表面的濕式蝕刻組合物和方法,所述表面含有氮化硅(SiN)、氧化硅和多晶硅,所述多晶硅在一個實施例中與包含比硅在電化學上更惰性的化合物的表面接觸,和任選的其它材料,其可包括適用于微電子裝置的導電材料、半導電材料...
        • 描述了一種過濾器濾芯和一種改裝過濾器外殼的方法。一種可移除過濾器濾芯包含:過濾器外殼,其含有用于對液體進行過濾的過濾器;和密封閥組合件,其耦合到所述過濾器外殼且用于將所述過濾器濾芯以可移除方式耦合到過濾器頭部。所述密封閥組合件包含入口通...
        • 一種可拆式過濾器濾芯包含容納過濾器的過濾器殼體、密封閥,所述密封閥聯接到所述過濾器殼體的敞開端且被構形成將所述可拆式過濾器濾芯可拆卸地聯接到過濾器頭。所述密封閥具有打開位置和密封所述過濾器殼體的閉合位置,且被構形成在與所述過濾器頭斷開聯...
        • 本申請案涉及前驅物輸送系統及前驅物供應封裝。一些實施例涉及用于產生氣態前驅物的前驅物輸送系統。所述前驅物輸送系統可包含容納固態前驅物材料的一或多個前驅物供應封裝。所述一或多個前驅物供應封裝可經配置以將所述固態前驅物材料加熱到足以導致所述...
        • 一種卡匣固持件包含框架、在相對于所述框架的垂直方向上延伸的第一卡匣觸點及在所述相同垂直方向上延伸的第二卡匣觸點。所述第一及第二卡匣觸點沿所述框架的長度方向分離。所述卡匣觸點可在與提供于用于包含所述卡匣及卡匣固持件的晶片容器的門上的通道介...
        • 提供用于選擇性地蝕刻氮化鈦的組合物的方法,其通常使所存在的鉬以及可能存在于裝置上的任何氧化鋁、二氧化硅和多晶硅不受工藝影響。本發明組合物通常能夠實現超過/分鐘的氮化鈦蝕刻速率,由此在圖案中提供均勻的凹部頂層和底層。凹部頂層和底層。凹部頂...
        • 本發明描述用于過濾液體的濾波器組合件及其制造方法。用于過濾液體的所述過濾器組合件包含過濾器殼體及安置于所述過濾器殼體的經圍封空間中的濾筒。所述過濾器殼體包含附裝到碗狀物以形成所述經圍封空間的蓋。所述蓋包含用于所述經圍封空間的流體入口端口...
        • 本申請案涉及包覆模制的連接器和其制造方法。一種流體連接組合件包含多個管道,其具有第一敞開端和與所述第一敞開端相對的第二敞開端;和多個連接器。所述連接器中的每一個包含至少兩個連接器部分,其中所述至少兩個連接器部分中的每一個從所述連接器的中...