一個實施例提供一種用于確定光刻過程的過程模型的系統。光刻過程可以使用多個曝光和顯影步驟以在晶片上產生特征。當光刻過程用布局將晶片曝光時候，晶片可能包括由先前曝光和顯影步驟造成的外形變化。過程模型可以用來預測當用第二布局將晶片曝光時在晶片...

本發明的一些實施例提供了能加速項目啟動以及出帶的系統和方法。在操作期間，系統可以接收一組技術文件和一組庫。然后，系統可以識別所述一組技術文件和一組庫中的缺陷。然后，系統可以構建更新工具，使得當計算機系統執行該更新工具時，其能夠使所述計算...

本發明公開了一種用于糾正布局中的輔助特征印刷錯誤的方法和設備。本發明的一個實施例提供一種調節布局中的輔助特征以防止印刷輔助特征的系統。在操作期間，系統接收布局。系統然后標識布局中的輔助特征（ＡＦ）印刷熱點，其中ＡＦ印刷熱點包括輔助特征集...

本發明涉及用于形式特性驗證的假設的自動近似。本發明的一個實施例提供了一種系統，包括用于簡化電路設計的假設集，以及用于通過確定在滿足所述簡化后的假設集時電路設計是否滿足斷言集來對所述電路設計進行驗證的方法和裝置。在操作期間，所述系統可以通...

本發明提供了用于高效計算海量布局數據的增量式并發處理的方法和設備。本發明的一些實施例通過在不同處理階段之間的移交期間將布局數據保持為分布式，克服了ＥＤＡ工作流程中的Ｉ／Ｏ瓶頸。具體地，一些實施例利用了并發計算范例的優點，其中數據在各階段...

本發明涉及用于在計算中心中實施資源使用策略的方法和系統。具體地，本發明的一個實施方式提供了一種在計算中心中實施資源使用策略的系統。在操作期間，系統可以接收規范規則，其包括資源使用規則和校正動作規則。資源使用規則可以規定違反資源使用策略的...

本實用新型公開了一種用于包括觸發器和鎖存器中至少一個的序向單元的電路設計的設備。具體地，該設備包括：接收裝置，配置成接收電路設計網表的序向單元的初步布局以形成初步設置，所述初步布局至少基于所述序向單元的時序和可布線性；以及識別裝置，配置...

本發明涉及基于對聚焦敏感的成本協方差場的輔助特征布置。本發明的一個實施例提供一種確定光學鄰近校正后（ＯＰＣ后）掩膜布局內的輔助特征布置的系統。在操作期間，該系統接收代表ＯＰＣ前掩膜布局中的成組多邊形的成組目標圖案。該系統然后基于目標圖案...

本申請涉及用于合并覆蓋數據的ＥＤＡ覆蓋日志的方法和裝置。公開了一種合并覆蓋日志的電子設計自動化技術。通過驗證硬件描述語言電路設計來生成覆蓋日志。在生成覆蓋日志時合并覆蓋日志而不等待所有未決覆蓋日志。還公開了合并覆蓋日志的另一電子設計自動...

本申請涉及用于合并覆蓋數據的ＥＤＡ覆蓋日志的方法和裝置。公開了一種合并覆蓋日志的電子設計自動化技術。通過驗證硬件描述語言電路設計來生成覆蓋日志。在生成覆蓋日志時合并覆蓋日志而不等待所有未決覆蓋日志。還公開了合并覆蓋日志的另一電子設計自動...