一種利用高密度等離子氧化（ＨＤＰＯ）制造工藝以在ＭＯＳ　ＴＦＴ組件中形成高質量柵極介電層的方法與設備。在實施例中，ＨＤＰＯ層形成在通道、源極與漏極區域上以形成介電界面，以及一層或多層介電層被沉積在ＨＤＰＯ層上以形成高質量柵極介電層。ＨＤ...

本發明涉及一種用于真空下持續涂覆帶狀基底的設備，特別適用于在基底上制備涂覆樣品，具有印染輥和支承輥，將基底導向在兩者之間，其中，印染輥和支承輥在可通過伺服單元調整的工作位置運轉著相互連接，通過這種方式將涂層劑或隔離劑借助印染輥傳遞到基底...

本發明提供一種軸對稱和均勻熱分布的真空吸附加熱器。在一些實施例中，一種真空吸盤包括：主體，具有用于在其上支撐襯底的支撐表面；多個軸對稱布置的溝槽，形成于所述支撐表面中，所述溝槽中的至少一些相交；以及穿過所述主體并在所述溝槽內形成的多個吸...

本發明涉及一種在襯底上沉積層的濺射涂覆裝置以及方法。濺射涂覆裝置包括真空涂覆室、以及布置在涂覆室內的襯底。此外，濺射涂覆裝置包括具有圍繞中心軸Ａ轉動的可轉動靶的圓柱形中空陰極、以及布置在中空陰極內并被布置使得在可轉動靶的表面上方的區域中...

本發明公開了一種用于制造半導體設備的潔凈鋁合金，其中該潔凈鋁合金的至少一部分表面通過陽極化鍍層進行保護，所述潔凈鋁合金包含一些雜質微粒，其中至少８５％的所述雜質微粒尺寸小于５μｍ，少于１５％的所述雜質微粒的尺寸在５μｍ到２０μｍ之間，少...

本發明提供了襯底支撐組件和用于控制處理室內的襯底溫度的方法。該襯底支撐組件包括導熱主體，其包含不銹鋼材料；襯底支撐表面，其在導熱主體的表面上并適用于在其上支撐大面積襯底；一個或多個加熱元件，其嵌入在導熱主體內；冷卻板，其定位在導熱主體之...

一種分離磁體環（７０），特別有利于磁控管等離子體反應器（１０），所述反應器用于將鉭、鈦、鎢或其他阻擋金屬濺射沉積到過孔中以及從過孔底部將所沉積的材料二次濺射刻蝕到過孔側壁上。該磁體環包括兩個環形磁體環（７２、７４），所述環形磁體環具有相...

本實用新型提供了一種凈化室運輸封裝，對運輸具有許多有不同形狀的艙元件的工藝艙套件是有用的。所述封裝包括具有第一壁架和從第一壁架向外延伸的多個第一槽的第一剛性盤，第一壁架具有第一邊，第一剛性盤可拆卸地裝配到第二剛性盤，第二盤具有從第二壁架...

在本發明的第一方面中，提供了一種用于在平板顯示器制造中減少墨水聚集物的設備。所述設備包括（１）適合于在噴墨打印中將墨水分配在襯底上的噴墨頭；（２）適合于儲存用于噴墨打印的墨水并供應墨水至所述噴墨頭的墨水存儲器；和（３）適合于在墨水到達所...

本發明提供了一種用于同時進行噴墨打印和缺陷檢驗的系統。該系統包括：至少一個打印頭，用于在基板上沉積墨水；至少一個成像裝置，用于在打印操作過程中掃描基板；和控制器，用于接收由成像裝置掃描的圖像數據，利用經處理的圖像數據確定是否在基板上存在...

一種噴墨打印方法，包括：　　　　確定墨水滴在襯底上的期望沉積位置；　　　　用噴墨打印系統在所述襯底上沉積所述墨水滴；　　　　檢測所述被沉積的墨水滴在所述襯底上的沉積位置；　　　　將所述沉積位置與所述期望位置進行比較；　　　　確定所述沉積...

一種噴墨打印方法，包括：　　　　對襯底進行成像；　　　　檢測噴墨打印系統的打印參數變化；　　　　根據所述被成像的襯底和檢測到的打印參數變化，計算校正因子；　　　　根據所述校正因子，對所述噴墨打印系統的至少一個打印參數進行調整；以及　　　...

在第一方面，本實用新型公開了一種用于在集群式機器中傳送襯底的機器人托板。該機器人托板包括（１）第一表面；（２）與第一表面相背的第二表面；（３）第一集成特征，用于容納穿過托板的第一連接裝置，其中第一集成特征在第二表面處是圓形；和（４）第二...

本發明提供一種多軸真空電機組件，其包括：（１）第一轉子（１０４）；（２）第一定子（１０２），適于整流以穿過真空阻擋件（１０６）旋轉所述第一轉子并控制真空室（１０８）內的第一機械手臂（１１０）的第一軸的旋轉；（３）第二轉子（１２２），位于...

本實用新型公開了一種拋光墊調節器，其包括基板和基板上的墊調節面。所述調節面包括中心區域和周邊區域。包括基本不變寬度的研磨粒子的研磨輻條從中心區域延伸到周邊區域，所述研磨輻條彼此徑向隔開。輻條對稱并彼此徑向隔開，并可以具有各種形狀。調節面...

一種用于載具頭的裝置，該裝置包括柔性薄膜，柔性薄膜包括具有帶有多個突起的表面的中心部分。薄膜可以模制成使得環狀邊緣部分朝薄膜的中心向內彎曲以形成扁平凸緣，該凸緣以加厚的邊緣終止。中心部分的表面可以提供構造成接納２００ｍｍ直徑襯底的安裝表面。

本發明提供了方法和裝置，以實現用于監控對襯底進行拋光的技術。獲取兩個或多個數據點，其中每個數據點具有受傳感器的感知區域內的特征影響的值，并且與感知區域經過襯底（１０）時襯底和傳感器的相對位置相對應。一組參考點被用來修改所獲取的數據點。該...

提供了用于處理襯底的處理墊組件的實施例。處理墊組件包括上層和電極，上層具有處理表面，電極具有耦合到上層的頂側和與頂側相對的底側。第一組孔形成為通過上層，以將電極暴露到處理表面。至少一個孔徑形成為通過上層和電極。

用于化學機械拋光的保持環具有大致環形的體，所述大致環形的體具有頂表面、底表面、內徑表面和外徑表面。所述底表面包括多個溝道，每個溝道從所述內徑表面延伸到所述外徑表面并具有圓形頂。

可以通過機械加工或研磨環的底表面以在底表面中形成成型輪廓來使固定環成型。固定環的底表面可以包括平坦、傾斜或彎曲的部分。可以使用專用于研磨固定環的底表面的機械來實現研磨。在研磨期間，環可以被允許繞環的軸線自由旋轉。固定環的底表面可以具有彎...