本發明描述一種用于結合溫度敏感標簽容納例如毒性及危害性氣體的氣體的施配及存儲容器。實例施配及存儲容器包含在所述容器的內部容積內的吸附劑及試劑氣體。熱變色標簽粘附到所述容器且以視覺方式將溫度敏感信息傳達給用戶。

本實用新型是針對一種用于汽化和遞送經汽化源材料的汽化器組合件。所述汽化器組合件具有改進的汽化器器皿主體和位于其中的支撐托盤組合件配置，它們一起增加了可汽化材料利用率和均勻性。

本發明描述過濾產品及使用過濾產品的方法，其中所述過濾產品包括多個單元，每一單元在使用期間包含單獨循環流體化床。

本申請涉及一種用于流體容器的封蓋、液體容納系統及流體儲存成套裝置。所述用于流體容器的封蓋包含封蓋主體，所述封蓋主體包含位于第一末端的基底表面和位于第二末端的開口。所述封蓋主體可與所述流體容器接合。所述基底表面包含第一接合結構。所述封蓋包...

本發明提供一種用于從其上具有化學機械研磨CMP后殘余物和污染物的微電子裝置清洗所述殘余物和污染物的清洗組合物和方法。所述組合物在不損害低k介電材料或銅互連材料的情況下實現從所述微電子裝置的表面高效清洗所述CMP后殘余物和污染物材料。另外...

本發明提供適用于從微電子裝置中通過相對于含硅材料蝕刻含硅?鍺材料而選擇性移除的組合物，所述微電子裝置具有表面上含有這些材料的特征，所述組合物含有氫氟酸、乙酸、過氧化氫和至少一種額外的酸，所述酸會改良如通過蝕刻速率或選擇性中的一或多者所測...

本申請涉及經涂布過濾膜、過濾筒、過濾器和使用與制備所述經涂布過濾膜的方法。描述涂布有聚酰胺的過濾膜、包含所述過濾膜的過濾器和過濾筒，以及使用和制作所述過濾膜的方法。

本實用新型涉及一種化學品遞送系統。所述化學品遞送系統包含散裝容器、運行/再填充腔室、第一導管及第二導管。所述散裝容器存儲前體。所述運行/再填充腔室包含多個間隔開的管，所述多個間隔開的管具有多個表面，所述多個表面用于以蒸汽形式接收所述前體...

本申請涉及一種具有超硬磨料增強的化學機械平坦化修整器襯墊。該墊修整器包括具有帶紋理或粗糙表面的特征部，具有超硬磨料晶種，例如散布在粗糙表面上的金剛石。涂層，例如多晶金剛石可應用于表面和磨料晶種上。在一個實施方式中，所述涂層的厚度是較大超...

本發明涉及一種去除組合物和工藝，其用于從上面具有化學機械拋光CMP后污染物和氧化鈰粒子的微電子裝置清潔所述粒子和污染物。所述組合物實現所述氧化鈰粒子和CMP污染物材料從所述微電子裝置的表面的高度有效去除而不會損壞低k介電材料、氮化硅或含...

與具有優良耐化學性和結構完整性的涂層相關的制品和方法可以在介于約150℃與低于300℃之間的低處理溫度下通過原子層沉積和氟退火制備。所述膜包含含有釔的氟化金屬氧化物。

本發明涉及一種在使用含鋁蝕刻停止層的半導體的生產中幫助去除蝕刻后殘留物及含鋁材料、例如氧化鋁的清潔組合物。所述組合物相對于低k介電材料、含鈷材料和微電子裝置上的其它金屬對蝕刻后殘留物和含鋁材料具有高選擇性。

本實用新型是針對一種蒸汽遞送容器組合件。本實用新型是針對一種具有汽化器容器主體與定位在其中的至少一個支撐托盤之間的改善的熱轉移的汽化器或安瓿組合件。具體地說，提供了安置于容器主體與支撐托盤之間的熱轉移增強部件。在熱轉移增強部件或組合件的...

本申請涉及利用增強源技術進行磷或砷離子植入。本發明描述使用固體摻雜劑磷及砷源及較高階磷或砷植入源材料的設備及方法。在各種實施方案中，在離子源室中提供固體含磷或含砷材料以用于產生二聚物或四聚物植入物質。在其它實施方案中，通過使用反應器來分...

本發明涉及一種清潔組合物，其有助于在生產半導體中去除蝕刻后殘留物。提供一種儲備組合物，其包含：氫氧化四烷基銨堿或季銨化三烷基烷醇胺堿；腐蝕抑制劑；和至少兩種或超過兩種多元酸或其鹽的組合，其中至少一種所述多元酸或其鹽含有磷。

本發明涉及離子植入工藝及設備。本發明涉及一種離子源設備，其以使得能夠采用低蒸氣壓摻雜劑源材料的方式生成摻雜劑物種。所述離子源設備(10)包括：離子源腔室(12)；及在所述離子源腔室(12)中或與所述離子源腔室(12)相關聯的可消耗結構，...

一種襯底容器的門包含用于操作至少兩個閂鎖部件的閂鎖機構。所述襯底容器可為前開式襯底容器或底開式襯底容器。所述閂鎖機構可包含可旋轉凸輪，所述可旋轉凸輪具有與第二旋轉輪廓異相的第一旋轉輪廓使得當旋轉所述凸輪以操作所述閂鎖機構使其從脫離位置到...

本發明涉及橋聯不對稱鹵炔基六羰基二鈷前驅物及其超高純度形式、制造方法以及在氣相沉積方法中使用這些橋聯不對稱鹵炔基六羰基二鈷前驅物的方法。本發明的一個方面涉及式Co2(CO)6(R

本發明涉及基于源試劑的用于批量沉積的高物質通量流體的輸送。本發明公開了一種系統、試劑支持盤、顆粒抑制裝置和方法。一方面，系統包括具有包圍內部空間的一個或多個內壁的汽化器容器和構造為在內部空間內垂直堆疊的多個試劑支持盤。將多個試劑支持盤中...

本發明揭示一種化學機械平坦化CMP墊修整組合件，其包含定位于所述墊修整組合件的一或多個研磨區之間的一或多個支撐結構。可通過一或多個通道而使所述支撐結構與研磨區分離。所述一或多個支撐結構的頂部表面不與所述墊修整組合件的所述研磨區的頂部表面...