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        恩特格里斯公司專利技術

        恩特格里斯公司共有637項專利

        • 本公開提供靜電放電緩解裝置及一種流體回路。在一或多個實施例中,所述靜電放電緩解裝置是用以將靜電荷從導電聚合物管道轉移到導電聚合物操作組件的導電插入件。導電聚合物操作組件的導電插入件。導電聚合物操作組件的導電插入件。
        • 本申請案涉及一種折射率傳感器。用于使用具有測量表面的傳感器來確定溫度或溫度相關變量的系統及方法包含:傳感器主體,其具有一或多個壁且含有中間材料;窗,其提供測量表面;第一溫度傳感器,其在所述窗處或其附近獲得第一溫度;第二溫度傳感器,其位于...
        • 本發明提供用于制備各種VI族前驅物化合物的簡便方法,所述VI族前驅物化合物可用于將這類VI族金屬氣相沉積于固體襯底、尤其微電子半導體裝置襯底上。所述方法提供獲得這類揮發性材料的有效手段,然后所述揮發性材料可作為要沉積于所述襯底上的含鉬、...
        • 本發明的某些實施例利用低溫原子層沉積方法來形成含有硅和氮的材料(例如,氮化硅)。所述原子層沉積使用四碘化硅(SiI4)或六碘化二硅(Si2I6)作為一種前體并且使用例如氨的含氮材料作為另一前體。在需要氮化硅的選擇性沉積于二氧化硅上方進行...
        • 本發明大體上涉及一種去除組合物和方法,其尤其適用于從上面有氧化鈰粒子和CMP污染物的微電子裝置,尤其具有PETEOS、氮化硅和多晶硅襯底的微電子裝置清潔所述粒子和CMP污染物。在一個方面中,本發明提供利用不含硫和磷原子的絡合劑處理上面有...
        • 本申請涉及配體改性的過濾器和用于從液體組合物中減少金屬的方法。描述了具有多羧基配體諸如亞氨基二乙酸的過濾材料,其對于從流體中過濾金屬或金屬離子非常有效。所述過濾材料對于過濾各種流體組合物特別有用,諸如在微電子裝置制造中用于濕蝕刻、去除光...
        • 本實用新型涉及一種過濾器及過濾器殼體,所述過濾器具有:殼體,所述殼體具有第一端面和第二端面以及內表面和外表面;被設置在管狀殼體內的膜;被密封到所述管狀殼體的第一端面以及所述膜的所述第一端面的第一端蓋;密封到所述管狀殼體的第二端面和所述膜...
        • 本申請案描述中空纖維多孔聚合物過濾膜及用于制備這些膜的方法。所述方法包含:擠壓及塑形包含聚合物及溶劑的聚合物溶液;及通過使經擠壓聚合物與液體金屬接觸來降低經擠壓聚合物的溫度。
        • 本發明描述用于氟離子植入的方法和系統,其中將能夠形成多種氟離子物質的氟化合物在預定流速下引入到離子植入機中。氟離子物質是在預定電弧功率和源磁場下產生,從而提供用于所需氟離子物質的優化束電流。將所需氟離子物質(如具有多個氟原子的離子物質)...
        • 本發明描述用于氟離子植入的系統和方法,其包括用以產生供植入到個體中的氟離子物質的氟氣體源和包括一或多種非鎢材料(石墨、碳化物、氟化物、氮化物、氧化物、陶瓷)的電弧室。所述系統在系統操作期間最小化氟化鎢的形成,由此延長源壽命且促進經改良的...
        • 本發明公開一種外包裝組合件及一種制作外包裝組合件的方法。所述外包裝組合件包含定位在外包裝內的襯里。在一個實施例中,所述方法包含制作襯里,所述制作襯里包含提供定位在第二片材上方的包含配接件的第一片材,所述第一片材在整個周界邊緣處沿著貼合縫...
        • 本發明描述將金屬膜或層沉積到襯底上的氣相沉積方法,例如,其中所述金屬為鉬或鎢;所述方法涉及在還原氣體(例如,氫氣)及含氮還原化合物存在下將金屬層從含金屬前體氣相沉積到襯底上。
        • 本發明公開一種用于從上面有殘留物和/或污染物的微電子裝置清洗所述殘留物和/或污染物的清洗組合物。所述組合物包含至少一種絡合劑、至少一種清洗添加劑、至少一種pH調節劑、水和至少一種氧胺化合物。有利地,所述組合物展示含鈷襯底的有效清洗和經改...
        • 本發明提供適用于選擇性地蝕刻釕和/或銅的組合物。所述組合物包含某些過碘酸鹽化合物、氫氧化烷基銨或烷基鏻、碳酸鹽或碳酸氫鹽緩沖劑和水,其中所述組合物的pH為約9至約12.5。本發明的組合物有效用于本發明的方法中且已發現能夠以類似速率,即&...
        • 本發明提供一種利用呈粉末形式的碘化鋰且通過叔胺催化,由三氯硅烷制備某些硅烷前體化合物,例如三碘硅烷的方法。所述方法以高產率和高純度提供三碘硅烷。三碘硅烷是可用于將硅原子層沉積到各種微電子裝置結構上的前體化合物。
        • 本申請案提供一種閥部件,所述閥部件包含隔膜部分及可附接到所述隔膜部分的閥頭。所述閥頭包含經配置以與界定在閥中的閥座嚙合的嚙合部分。所述嚙合部分是由含有至少一種氟聚合物的可熔融處理材料形成。所述隔膜部分是由不可熔融處理且含有至少一種氟聚合...
        • 本發明提供一種用于從上面有氧化鈰粒子和化學機械拋光(CMP)后污染物的微電子裝置清潔所述污染物和粒子的去除組合物和方法。所述組合物實現從所述微電子裝置的表面高度有效去除所述氧化鈰粒子和CMP副產物污染物材料而不損害低k介電材料、氮化硅材...
        • 本發明描述多孔燒結金屬體及通過增材制造方法而制作多孔燒結金屬體的方法。
        • 本申請案涉及一種界面附近的流體的準確溫度讀取。用于使用具有測量表面的傳感器來確定溫度或溫度相關變量的系統及方法包含:傳感器主體,其具有一或多個壁且含有中間材料;窗,其提供測量表面;第一溫度傳感器,其在所述窗處或其附近獲得第一溫度;第二溫...
        • 本發明涉及一種靜電卡盤,其通過在升高凸起上提供導電路徑來解決晶片粘附的問題,所述升高凸起橋接在一起且連接到接地以便將晶片襯底支撐在所述靜電卡盤的表面上面。此外,橫向隔開的電極圖案以及遠離所述升高凸起橫向且縱向隔開的電極元件減少或消除晶片...