一種液壓連接器組件和防轉(zhuǎn)動(dòng)帶。用于防止液壓連接器組件泄漏的防轉(zhuǎn)動(dòng)裝置，防轉(zhuǎn)動(dòng)裝置的多個(gè)實(shí)施例提供機(jī)構(gòu)，借此諸如壓縮配件的螺紋接合式連接器被允許僅在松開之后轉(zhuǎn)動(dòng)一圈的小部分。對(duì)于許多應(yīng)用，松開的限制程度足以防止泄漏的開始。結(jié)構(gòu)上，防轉(zhuǎn)動(dòng)裝...

本發(fā)明揭示用于從上面具有等離子蝕刻后殘余物的微電子裝置清除所述殘余物的清潔組合物及工藝。所述組合物實(shí)現(xiàn)所述殘余物材料從所述微電子裝置的高度有效清除，同時(shí)又不損壞也存在于所述微電子裝置上的層間電介質(zhì)、金屬互連材料及/或帽蓋層，所述殘余物材...

本發(fā)明涉及一種襯底容器，其包含適于接收呈襯底堆疊的襯底的襯底支撐件，例如同心環(huán)。所述容器包含基底及頂蓋以圍封所述襯底堆疊。閂鎖機(jī)構(gòu)適于將所述頂蓋閂鎖到所述基底且將所述襯底堆疊固定于所述容器內(nèi)。所述閂鎖機(jī)構(gòu)包含位于所述容器的外側(cè)部分上的彈...

一種襯底容器包含：容器部分，其具有敞開側(cè)或底部；及門，其用以將所述敞開側(cè)或底部密封地閉合，所述門及所述容器部分中的一者界定接達(dá)結(jié)構(gòu)。所述襯底容器另外包含止回閥組合件，所述止回閥組合件相對(duì)于所述接達(dá)結(jié)構(gòu)進(jìn)行保持以提供與所述襯底容器的內(nèi)部的...

本發(fā)明提供一種用于存儲(chǔ)及/或運(yùn)輸一或多個(gè)液浸管組合件的包裝囊袋。所述囊袋包含前側(cè)，所述前側(cè)沿著第一密封邊緣、第二密封邊緣及密封端可密封地且固定地附接到背側(cè)。所述前側(cè)與背側(cè)在與所述密封端相對(duì)的端處界定開口。多個(gè)焊接部在所述囊袋的長度的至少...

本文中提供例如用于儲(chǔ)存或施配高純度化學(xué)物的襯里以及制造此些襯里的方法。所述襯里抵抗應(yīng)力引發(fā)裂口的形成。在一個(gè)方面中，所述襯里包含形成為能夠保持液體的襯里的膜。所述襯里具有：對(duì)氣體(例如，氧)的第一障壁層；對(duì)所述氣體(例如，氧)的第二障壁...

公開了起泡點(diǎn)在約5.38巴(78psi)與11.03巴(160psi)之間的接枝、不對(duì)稱、多孔的超高分子量聚乙烯膜。單體接枝到多孔聚合物膜表面，所述單體具有接枝到膜的一或多個(gè)表面的一或多個(gè)中性基團(tuán)或離子交換基團(tuán)。兩種光引發(fā)劑的組合可用于...

本申請(qǐng)涉及襯底容器及用于密封該襯底容器的襯圈。一種具有改進(jìn)的傳導(dǎo)的襯圈和襯底容器。在一個(gè)實(shí)施例中，所述襯圈提供兩條密封接觸線。所述襯圈的凸緣部分提供第一密封接觸線，并且提供與軟襯圈材料的牢固但是半剛性的介接，其還可充當(dāng)所述襯底容器的門與...

一種靜電夾具，包含：一陶瓷結(jié)構(gòu)組件；至少一電極，配置于該陶瓷結(jié)構(gòu)組件之上；以及一表面介電層，配置于該至少一電極上方，該表面介電層被該電極中之一電壓?jiǎn)?dòng)而形成一電荷以靜電式地箝夾一基板至該靜電夾具。該表面介電層包含：(i)一非晶氧化鋁絕緣...

本發(fā)明描述使用固體摻雜劑磷及砷源及較高階磷或砷植入源材料的設(shè)備及方法。在各種實(shí)施方案中，在離子源室中提供固體含磷或含砷材料以用于產(chǎn)生二聚物或四聚物植入物質(zhì)。在其它實(shí)施方案中，通過使用反應(yīng)器來分解氣態(tài)含磷或含砷材料以形成用于離子植入的氣相...

一種氣體存儲(chǔ)及分配器皿，其包含限定氣體存儲(chǔ)內(nèi)部容積的器皿容器，及固定到所述器皿容器的閥頭調(diào)節(jié)器組合件，所述閥頭調(diào)節(jié)器組合件包含安置在所述器皿容器的所述內(nèi)部容積中的單一氣體壓力調(diào)節(jié)器，及包含氣動(dòng)流量控制閥的閥頭，其中所述單一調(diào)節(jié)器經(jīng)配置為...

本發(fā)明是一種氣體純化器，其例如在次大氣壓下自惰性氣體及還原氣體移除濕氣及氧氣。該純化器可移除氣流中百萬分之一體積含量的濕氣至低于萬億分之100，且具有較低壓降及較陡穿透曲線。

本發(fā)明涉及一種從其上具有抗反射涂層ARC材料及/或蝕刻后殘留物的襯底去除所述ARC材料及/或蝕刻后殘留物的液體去除組成物及方法。所述組成物在集成電路的制造中實(shí)現(xiàn)ARC材料及/或蝕刻后殘留物的至少部分去除同時(shí)對(duì)所述襯底上的金屬物質(zhì)(例如鋁...

本發(fā)明描述一種離子植入系統(tǒng)，其包含：離子植入機(jī)，所述離子植入機(jī)包括殼體，所述殼體界定封圍容積，在所述封圍容積中定位有氣體箱，所述氣體箱經(jīng)配置以固持一或多個(gè)氣體供應(yīng)容器，所述氣體箱與所述封圍容積中在所述氣體箱外部的氣體進(jìn)行受限式氣體流動(dòng)連...

本發(fā)明涉及一種離子源設(shè)備，其以使得能夠采用低蒸氣壓摻雜劑源材料的方式生成摻雜劑物種。所述離子源設(shè)備(10)包括：離子源腔室(12)；及在所述離子源腔室(12)中或與所述離子源腔室(12)相關(guān)聯(lián)的可消耗結(jié)構(gòu)，所述可消耗結(jié)構(gòu)包括固體摻雜劑源...

實(shí)施例提供一種具有大體矩形、非圓柱形輪廓的過濾器。所述過濾器可具有定位于褶蓋之間的多個(gè)褶包，所述褶蓋在過濾器主體的腔中界定區(qū)域及流動(dòng)通道。所述褶蓋具有允許流體經(jīng)由并聯(lián)流動(dòng)或串聯(lián)流動(dòng)而流動(dòng)穿過所述多個(gè)褶包的開口。接合到所述主體的端帽界定用...

本發(fā)明涉及用于在廢棄的電氣和電子設(shè)備的循環(huán)利用期間剝離焊料金屬的裝置和方法。本發(fā)明提供的用于循環(huán)利用印刷線路板的裝置和方法可以收集電子部件、貴金屬和賤金屬以供重新使用和循環(huán)利用。所述裝置總的來說包括機(jī)械焊料去除模塊和/或熱模塊、化學(xué)焊料...

一種適用于例如450毫米晶片等大晶片的前開式晶片容器，使用具有多個(gè)單獨(dú)扣件的組件部分以將該組件部分以一適當(dāng)方式鎖定在一起，進(jìn)而提供堅(jiān)固的連接及具有成本效益。容器部具有開口的正面并于底面上容置由多個(gè)扭鎖連接器固定的基板，該扭鎖連接器亦提供...

本發(fā)明涉及一種形成基于襯里的組件的方法和基于襯里的系統(tǒng)。在一個(gè)實(shí)施方式中，本發(fā)明涉及一種基于襯里的組件，所述組件包括：外層包裝以及放置在所述外層包裝內(nèi)部的襯里。可通過在所述外層包裝的內(nèi)部吹塑襯里預(yù)制件以形成一個(gè)吹塑襯里而形成所述襯里，所...

本發(fā)明系關(guān)于一種大體剛性的可塌縮內(nèi)襯、用于替換玻璃瓶的容器和/或內(nèi)襯、以及加強(qiáng)的柔性內(nèi)襯。本公開涉及一種吹塑成型的剛性可塌縮內(nèi)襯，該吹塑成型剛性可塌縮內(nèi)襯可尤其適合于較小儲(chǔ)存及分配系統(tǒng)。該剛性可塌縮內(nèi)襯可為自立內(nèi)襯，例如，在沒有外容器的...