公開一種可暴露于例如鉬蒸氣、鎢蒸氣或其任何組合的化學蒸氣的裝置，所述裝置具有覆蓋其至少一部分的涂層。所述涂層減少或抑制所述裝置的外表面暴露于蒸氣時的質量改變。在某些情形中，所述質量改變為質量增加，且所述涂層減少或抑制等于或小于1x?10...

本申請涉及智能封裝。本申請描述一種流體供應封裝，所述流體供應封裝包含流體存儲與施配容器，及耦合到所述容器且經配置以達成在施配條件下從所述容器排放流體的流體施配組合件，其中所述流體供應封裝在其上包含信息擴充裝置，例如，快速讀取QR碼及RF...

本發明描述氣體處理系統及相關方法，所述氣體處理系統包含介質器皿及預熱器，其用于通過使氣體流動以接觸容納于所述介質器皿中的例如催化劑或吸附材料的介質而處理所述氣體。

本發明公開一種用于流體容器的無菌封閉組合件，其包含可連接到所述流體容器的開口的蓋及可連接到所述蓋的所述外殼的外表面的流體施配器。所述流體施配器包含主體及設置在所述主體內的流體管線、設置在所述主體周圍的殼體及可連接到所述主體的第二端的插入...

本公開提供一種系統。所述系統包含具有至少兩個清洗模塊的襯底容器。所述至少兩個清洗模塊中的每一清洗模塊包含流量控制裝置。每一清洗模塊的所述流量控制裝置被配置為經驅動用于使清洗流體排出。提供一種驅動襯底容器的清洗模塊的流量控制裝置的方法。所...

本發明的一些實施例涉及前驅物(包括中間前驅物)和其相關方法。為制備中間前驅物，將雙(芳烴)金屬絡合物的混合物與第一芳烴組合。加熱所述雙(芳烴)金屬絡合物的混合物及所述第一芳烴并隨后冷卻。一經冷卻，雙(第一芳烴)金屬絡合物即從溶液沉淀以獲...

描述纏繞?褶式過濾器及制備及使用這些過濾器的方法。

本發明提供一種包含用無氧釕前體進行選擇性釕晶種層沉積、接著大量沉積含金屬前體、如含鎢、鉬、鈷、釕和/或銅前體的方法。所述釕晶種層沉積對于微電子裝置襯底的導電部分具有高度選擇性，同時最大限度地減少沉積至所述微電子裝置襯底的絕緣表面上。在某...

本發明描述通過在微孔碳吸附劑上吸附二硼烷來存儲所述二硼烷的系統和方法，其中所述微孔碳吸附劑包含在石墨層(片材)之間在石墨層間距處的狹縫孔，此相對于非吸附氣態二硼烷的降解活化能，增加二硼烷降解所需的活化能。

本公開描述自動化玻璃制造設備，且具體來說涉及被稱為“取出固持器”的裝置，以及使用所述取出固持器的系統及制造并使用所述取出固持器的方法。

描述用于在處理工件的步驟期間支撐所述工件的靜電卡盤，所述靜電卡盤包含在絕緣層上的電荷消散線的圖案，所述線具有第一導電層及第二導電層且經布置以在所述線之間定義所述絕緣層的封閉場。

本發明描述用于從容器中選擇性施配作為試劑氣體的鍺烷(GeH<subgt;4</subgt;)的存儲及施配系統及相關方法，在所述容器中所述鍺烷與包含沸石咪唑酸鹽骨架的固體吸附劑介質保持吸附關系。

一種過濾器殼體包含套筒、聯接到所述套筒的第一開口端的第一端蓋以及聯接到所述套筒的第二開口端的第二端蓋。所述套筒包含具有外徑向部分和內徑向部分的內部容積。所述第一端蓋包含連接到所述套筒的所述內部容積的所述外徑向部分和所述內徑向部分的第一多...

本公開提供某些多孔聚合膜，其涂有交聯聚合單體且包含在浸沒于有機液體中時具有電荷的單體。本公開的膜適用于去除微量金屬雜質，由此提供超純的有機液體。

一種連接組合件包含歧管。所述歧管包含：第一板，其具有第一縱向槽和第二縱向槽；第二板，其具有側壁和從所述側壁延伸的凸緣；桿，其可樞轉地耦合到所述第一板和所述第二板；第一軸桿；以及第二軸桿。所述凸緣配置成支撐可移除筒。所述桿配置成使所述第二...

本發明提供一種包括殼結構的微環境，所述殼結構經配置以固持半導體晶片，其中所述微環境包括環烯烴共聚物與一或多種聚烯烴聚合物的摻合物。所述摻合物可進一步包括導電材料、如碳納米管以增強所述摻合物的導電性。所述摻合物可不含抗沖擊劑、脫模劑和增塑劑。

光罩盒的內盒包含蓋及基板，所述蓋及所述基板在接觸表面處彼此接觸。所述蓋及所述基板的所述接觸表面各自包含不同材料。所述不同材料可各自為金屬。所述不同材料的硬度可不同。硬度差可為50布氏硬度或更大。所述不同材料中的一者可為延展材料，具有25...

用于光罩盒的蓋或底板的載運容器包含含有第一固定特征的第一殼體及含有第二固定特征的第二殼體。當連結所述第一殼體及所述第二殼體時，所述殼體界定能夠容納光罩盒的蓋或底板的內部空間，且所述固定特征嚙合所述蓋或底板以防止所述蓋或底板與所述第一殼體...

本發明公開一種過濾器單元，其包含外殼、安置在所述外殼中的第一過濾器及第二過濾器及連續地延伸穿過所述第一及第二過濾器的液體流徑。所述第一過濾器包含附裝到所述外殼的第一軸向端及第一過濾介質。所述第二過濾器包含在所述出口處附裝到所述外殼的第一...

本發明描述將潔凈流體調節元件安裝到半導體襯底攜載容器的內部空間中的方法。所述潔凈流體調節元件從所述半導體襯底攜載容器外部穿過所述容器的壁的一者中形成的端口而安裝，其中所述端口經設置大小以允許通過穿過所述端口安裝所述潔凈流體調節元件而將所...