襯底容器包含清洗流分配系統。所述清洗流分配系統可將一或多個清洗氣體輸入流劃分到氣體分配裝置的網絡的多個氣體分配表面。控制清洗的方法可包含配置所述襯底容器以在所述氣體分配表面中的每一者處提供經確定的清洗氣體流率。所述配置可使用所述清洗流分...

一種襯底容器包含界定內部空間的殼體及清洗流體分配系統。所述殼體包含前開口、底壁及后壁。所述清洗流體分配系統接收清洗氣體流且包含入口及分開的氣體分配裝置的網絡，所述分開的氣體分配裝置經配置以將所述清洗氣體流分配到所述內部空間中。還包含供應...

本公開提供一種制備高產率和呈自由流動顆粒形式的固體三(C1?C4烷基)磷酸二氫銨(例如三乙基磷酸二氫銨)的方法。固體產物有利地具有經卡爾費歇爾滴定法測定的小于約1500ppm的非質子性有機溶劑、小于約1500ppm的C1?C5烷醇和小于...

描述了儲存和分配系統及相關方法，其用于儲存和選擇性地分配來自儲存容器的高純度試劑氣體，其中所述試劑氣體與熱解碳吸附粒子保持吸附關系。

本公開描述含氧化硼的吸附劑，其包括多孔吸附劑基底和所述基底表面上的氧化硼；以及包括所述含氧化硼的吸附劑的裝置；以及制備和使用所述含氧化硼的吸附劑的相關方法。

提供用于蝕刻微電子裝置襯底上的含鉬膜的組合物和方法。使微電子裝置襯底與本發明的組合物接觸達足以至少部分地移除所述含鉬膜的時間。所述組合物包含至少一種氧化劑、至少一種絡合劑、至少一種陽離子表面活性劑，且具有約7.5到約13的pH。所述蝕刻...

本公開提供至少在其表面處具有可電離氮官能團的多孔聚合物膜，其中此類基團與氫氧根陰離子締合。所述膜可用于極性溶劑(例如水及醇)的純化且能夠移除痕量陰離子污染物，例如鹵離子、磷酸根、硝酸根、亞硝酸根、亞硫酸根及硫酸根。

一種袋組合件，其包含具有界定內部及開口的第一及第二壁的袋部分。所述內部通過所述袋部分的所述第一及第二壁沿所述袋組合件的周邊的至少一部分直到所述袋部分的一端彼此附接來形成。彼此未附接的所述袋部分的所述第一及第二壁的部分形成所述開口。所述袋...

一些實施例涉及具有可去除式涂層的物件。所述物件可包含襯底和所述襯底上的涂層。可將蝕刻終止層設置于所述襯底與所述涂層之間，以允許在不損壞所述襯底的情況下去除所述涂層。一些實施例涉及從物件去除涂層的方法。所述方法可包含：獲得包含介于襯底與所...

一種前開式晶片傳送盒包含外殼及所述外殼中的清洗端口。所述清洗端口包含濾膜及清洗過濾器支撐件。所述清洗過濾器支撐件包含外環結構及支撐框架工作。所述支撐框架從所述外環結構延伸。所述外環結構包含為所述濾膜提供支撐表面的多個支撐件。所述支撐件中...

一種設備包含光罩盒。所述光罩盒包含具有第一表面的底板、具有第二表面的蓋及在所述蓋及所述底板中的至少一者上的間隔機構。所述第一表面包含在所述底板的外圍上的第一密封表面。所述第二表面包含在所述蓋的外圍上的第二密封表面。所述間隔機構經配置以在...

一種工藝容器包含界定多個槽的凸緣。所述凸緣中的至少一者包含緊固器，所述緊固器經配置以當盤片或晶片被插入到由所述多個凸緣中的所述至少一者界定的所述多個槽中的一者中時接觸所述盤片或晶片。所述緊固器從所述多個凸緣中的所述至少一者向外突出到所述...

本申請涉及一種化學機械拋光后調配物及其使用方法。本發明揭示一種用于從上面具有化學機械拋光CMP后殘余物及污染物的微電子裝置清除所述殘余物及污染物的清潔組合物及方法。所述清潔組合物基本上沒有堿金屬氫氧化物、堿土金屬氫氧化物及四甲基氫氧化銨...

本發明描述在粘合劑中含有兩種或更多種不同類型的吸附劑材料且優選可通過積層制造技術制備的復合吸附介質；以及通過積層制造方法制備所述結構的方法。

本發明提供一種用于制備某些半夾心二茂鈦化合物的簡易方法。所述化合物可用于聚烯烴合成的催化劑系統中。在一個實施例中，高純度三甲基(五甲基環戊二烯基)鈦(IV)是從三氯(五甲基環戊二烯基)鈦(IV)與甲基鹵化鎂化合物的反應產生。

光罩盒包含介接表面以使所述光罩盒的段彼此固定。所述介接表面中的至少一者是斜表面，使得當所述光罩盒彼此固定時，光罩被夾持在設置于所述光罩盒的所述段上的光罩接觸件之間。當所述光罩盒經組裝且裝納光罩時，可在所述光罩盒中形成沖洗氣體流動通道。所...

描述了多孔燒結金屬膜及制造和使用所述多孔燒結金屬膜的方法，所述多孔燒結金屬膜包含由不同金屬顆粒制成的多個層，并且可以用作過濾膜。

本發明提供某些混合氨基化/烷氧化錫(II)前驅物化合物。這些化合物可用于將例如氧化錫膜的含錫膜氣相沉積到微電子裝置的表面上的前驅物組合物中。當在氣相沉積工藝中與某些相對反應物配對時，這些前驅物化合物可用于例如在微電子裝置制造中使用的極紫...

本發明的一些實施例涉及一種在襯底上沉積硅前體的方法。所述方法包含：獲得包含至少一個硅氧烷鍵的硅前體材料和獲得至少一種共反應物前體材料。使所述硅前體材料揮發以獲得硅前體蒸氣。使所述至少一種共反應物前體材料揮發以獲得至少一種共反應物前體蒸氣...

一種用于流體的傳送容器包含：管，所述管在一端處包含圓錐部分，所述管界定內部空間；及一或多個流體通道，其經配置以允許流體流入或流出所述管的所述內部空間。所述傳送容器還包含：連接器，其經配置以當所述連接器僅連結到所述圓錐部分時密封所述圓錐部...