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        ASML荷蘭有限公司專利技術

        ASML荷蘭有限公司共有3448項專利

        • 一種用于光刻裝置的圖案化設備環境的流體噴嘴包括具有上表面和下表面的細長結構、設置在細長結構的下表面中的至少一個下部開口、以及連接到至少一個下部開口的導管,至少一個下部開口被配置為提供經由導管輸送的流體流。
        • 本文所公開的實施例涉及使用并行傳感器概念并行測量多個標記的量測裝置和方法,該并行傳感器概念在空間中幾何布置傳感器,以允許并行獲取。選擇器可以被配置為阻擋標記的象限,以便生成圖像。可以比較所獲取的圖像之間的強度差并將其平衡,使得非相干內部...
        • 描述了用于光學部件的拆分系統。光學部件包括安裝件和在聯接位置處聯接到該安裝件的光學器件。該系統包括導熱銷,該導熱銷被配置成在聯接位置處接觸光學部件并且提供定向導熱,以引起光學器件與安裝件在結構上分離。該系統還包括加熱器和殼體,該加熱器被...
        • 一種光刻設備(100)包括:限定環境(401)的外殼(400),其中該環境包圍表面(402),其中外殼被配置為容納等離子體;微波發生器(410),被配置為將微波輻射(411)提供到外殼中;磁源(420),被配置為生成鄰近表面的磁場,該磁...
        • 一種光刻設備包括照射系統、投射系統和檢測系統。照射系統照射圖案化裝置的圖案。投射系統將圖案的圖像投射到襯底上。檢測系統包括平行布置的傳感器、和襯底支撐結構。傳感器對襯底上的目標執行檢查,并且在檢查之間的時間段期間在第一方向上移動。襯底支...
        • 一種帶電粒子束檢查方法包括在多個不同的信號采集模態下測量樣品。每個模態可以包括不同檢查參數集合,這些檢查參數可以針對諸如高分辨率或高采集速度等不同的目的進行優化。可以使用解卷積或其他優化任務來組合來自不同的信號采集模態的測量以形成合成圖...
        • 公開了一種襯底,包括至少一個目標,所述目標包括:在頂層中的參考子結構;和在位于所述頂層下方的掩埋層中的掩埋子結構。所述掩埋子結構包括在至少一個方向上的非恒定節距,如波帶板,所述非恒定節距促使作為對所述目標的測量的結果的被從所述子結構反射...
        • 本申請題為“用于在帶電粒子束設備中對晶片進行熱調節的系統和方法”。公開了一種改進的粒子束檢查設備,并且更具體地公開了一種包括用于預調節晶片的溫度的熱調節站的粒子束檢查設備。帶電粒子束設備可以掃描晶片以測量晶片上的結構的一個或多個特性并且...
        • 公開了一種用于光聲亞表面原子力顯微鏡的懸臂探頭布置,包括:懸臂;至少一個探頭元件,所述至少一個探頭元件附接到所述懸臂并且包括背離所述懸臂朝向所述探頭元件的尖端減小的截面積;以及至少一個聚焦結構,所述至少一個聚焦結構能夠操作以將在所述懸臂...
        • 一種用于根據圖像數據預測表征光刻過程的過程信息的方法。神經網絡被配置為接收襯底的圖案化部分的圖像數據并生成預測的過程信息。該方法包括獲得多個標記訓練項,每個訓練項包括訓練圖像數據、域標簽和過程信息。該方法還包括處理訓練圖像數據以生成域潛...
        • 公開了一種適于在極紫外輻射源中儲存待輻照和轉換的熔融靶材料的裝置,其中包含熔融靶材料的貯存器由鉬構成,所述貯存器例如通過使用熱等靜壓工藝制備,使得鉬的材料性質是各向同性的。
        • 本發明提供了一種包括位置測量系統的光刻設備,所述位置測量系統包括:測量頭、參考基準和提供表示所述測量頭相對于所述參考基準的位置的位置相關信號的傳感器;虛設位置相關信號生成器,所述虛設位置相關信號生成器被配置成提供虛設位置相關信號;處理裝...
        • 公開的是一種相位生成載波詢問器,該相位生成載波詢問器包括:一個或多個干涉儀,每個干涉儀可操作以接收調制輻射并且生成相應干涉儀信號,該干涉儀信號包括由被測對象引起的感興趣相位,每個上述干涉儀信號還包括由上述調制輻射引起的周期性相位調制;可...
        • 本發明公開一種量測方法和量測工具,包括:第一色散性元件,所述第一色散性元件可操作以接收并且散射源輻射以便生成第一散射的輻射;最終聚焦元件,所述最終聚焦元件被配置成:收集所述第一散射的輻射的至少一部分,所收集的第一散射的輻射包括各自已經在...
        • 一種用于表面輪廓確定的系統和方法,包括在表面(360)與一組粒子束(332,223)之間生成多個相互作用,和重組與所述表面相互作用之后的所述一組粒子束以確定表面深度輪廓。所述一組粒子束可以包括被拆分(340,342)成參考束(334)和...
        • 系統和裝置可以包括帶電粒子系統的樣品固持器的部件,該部件包括本體部分,該本體部分包括貴金屬;涂層,該涂層覆蓋本體部分的外表面區域的至少一部分,其中涂層被配置為減少從本體部分移除的貴金屬的粒子,以減輕帶電粒子系統中的污染物。
        • 一種用于確定投射系統的光學屬性的方法,該方法包括:獲得表示從投射系統輸出的測量輻射的測量數據;獲得由投射系統接收的輸入輻射的估計照射輪廓;基于估計照射輪廓生成表示從投射系統輸出的估計輻射的估計數據;將估計數據擬合到測量數據,以生成參數擬...
        • 一種帶電粒子檢測器包括多個感測元件,每個感測元件具有用于處理檢測信號的感測元件級電路。感測元件電路包括用于防止感測元件處的噪聲傳遞到感測元件級電路中的檢測單元的閾值電路。閾值電路可以是晶閘管或其他固態電流控制器件,當達到閾值電壓或電流時...
        • 一種測量物體的表面形貌的方法包括:用輻射束在束斑區域上形成圖案的第一圖像;相對于束斑區域移動物體;接收從物體反射的輻射束的一部分,并且將反射的輻射分為第一部分和第二部分,使得對應于第一圖像的第一部分的輻射的第一部分與對應于第一圖像的第二...
        • 一種被配置為支撐物體的物體保持器,物體保持器包括:基體,其由板形成,板具有上側和在板的上側上的接觸表面,接觸表面具有用于接觸物體的預定平坦度,其中,在板的上側上設置有凹口吸收層,凹口吸收層具有低體積密度,使得在外來顆粒的機械作用的情況下...