一種用于帶電粒子光學設備的帶電粒子光學模塊，該帶電粒子光學設備被配置為沿著射束路徑將帶電粒子束引向樣品位置，帶電粒子光學模塊包括：疊層，其包括帶電粒子光學板，該帶電粒子光學板被布置為跨該射束路徑并且被配置為對該帶電粒子束進行操作；以及屏...

本文中公開了一種用于在光刻設備中對輻射進行圖案化的掩模，該掩模包括：圖案化表面，被布置成對輻射賦予圖案；和波導結構，布置在圖案化表面上；其中圖案化表面包括：第一反射區域；和第二反射區域，被布置成使得從第二反射區域反射的輻射相對于從第一反...

一種電連接器包括：非導電柔性聚合物塊；電導體，該電導體從非導電柔性聚合物塊的第一端到第二端延伸穿過非導電柔性聚合物；和導電柔性聚合物套筒，該導電柔性聚合物套筒圍繞非導電柔性聚合物塊的側面延伸。

一種用于確定輸入的方法，該輸入被輸入至透鏡模型，以在對襯底的多個場中的至少一個場進行尋址時，確定針對光刻設備的透鏡的操縱的設定值，所述方法包括：接收針對至少一個場的參數數據，該參數數據與襯底的在至少一個場內的一個或多個參數有關，該一個或...

本文描述一種用于產生用于待印刷于襯底上的目標圖案的重靶向圖案的方法。該方法包括：獲得（i）包括至少一個特征的目標圖案，該至少一個特征具有包括第一維度和第二維度的幾何形狀；以及（ii）多個偏差規則，該多個偏差規則被定義為第一維度、第二維度...

一種EUV輻射源，包括：激光器，所述激光器被配置成發射激光束；和光學系統，所述光學系統被配置成控制所述激光束的位置以使得所述激光束入射到燃料液滴上，其中，所述光學系統包括光學路徑，所述光學路徑包括具有至少500?Hz的控制帶寬的位置可控...

一種襯底保持器，被配置為支撐用于在浸沒光刻裝置中曝光的襯底，襯底具有相對于浸沒液體的第一接觸角，襯底保持器包括：包圍結構，包圍結構包圍襯底，并且在被襯底保持器支撐時與襯底共面，包圍結構包括表面結構以及在表面結構下方的電極結構，其中表面結...

描述了用于各種量測標記類型的廣譜量測。所述系統和方法利用諸如空間光調制器(SLM)等調制器。對準標記通過成像透鏡投射到SLM上。所述SLM上的圖案序列調制所述傳入圖像和由收集透鏡收集的所有反射能量，時變信號可以從單個檢測器或者檢測器陣列...

公開了一種照射源，其包括具有氣體噴嘴的氣體遞送系統。氣體噴嘴包括在氣體噴嘴的出口平面中的開口。所述氣體遞送系統被配置成從所述開口提供氣流以用于在相互作用區域處產生所發射的輻射。該照射源被配置成接收具有傳播方向的泵浦輻射并且在氣流中提供該...

公開了提供了一種用于對準襯底的系統和方法。該系統包括：可旋轉支撐單元，其能夠在豎直方向上移動；和對準支撐件，其與可旋轉支撐單元共位?？蛇x地，對準支撐單元至少部分地圍封可旋轉支撐單元。

描述了包括熱交換器的基于氣體的激光器，熱交換器用于將壓縮氣體從第一溫度冷卻到低于所述第一溫度的第二溫度，其中所述熱交換器包括至少兩個熱交換元件，其特征在于，至少兩個熱交換元件中的第一熱交換元件被布置成將壓縮氣體從第一溫度冷卻到低于所述第...

提供了一種用于光刻設備的防護膜隔膜，所述隔膜包括未被覆蓋的碳納米管。還提供一種再生防護膜隔膜的方法，所述方法包括分解前體化合物，并且將至少一些分解產物沉積到防護膜隔膜上。還提供一種降低防護膜隔膜的蝕刻速率的方法，所述方法包括在防護膜隔膜...

披露了一種用于寬帶光源裝置的光學部件，該光學部件被配置為用于在接收泵浦輻射時產生寬帶輸出，并且該光學部件包括空芯光子晶體光纖（HC?PCF）；和填充該HC?PCF的氣體混合物，其中，所述氣體混合物包括至少一種第一氣體和至少一種第二氣體的...

一種相位生成載波詢問器包括：復合多載波合成器，能夠操作以生成用于對激光輻射源進行調制的至少一個激光調制載波信號；功率監測支路，能夠操作以測量激光輻射源的功率度量；波長參考支路，包括用于激光輻射源的波長穩定的波長參考、以及用于測量所述波長...

公開了一種帶電粒子光學元件。該元件用于帶電粒子光學模塊，該帶電粒子光學模塊被配置為將帶電粒子沿至少一個束路徑引導至樣品。在一種布置中，該元件包括芯片，該芯片包括被形成在半導體襯底(61)中的集成電路(64)。該襯底限定至少一個孔徑(63...

一種干涉儀系統包括提供光束的光源；光學系統，該光學系統用于將光束分成測量束和參考束，測量束和參考束各自具有不同波長，并且該光學系統被布置為將測量束引導到反射測量表面，將參考束引導到反射參考表面，并且重新組合反射測量束和反射參考束以提供反...

本發明提供了一種制造用于半導體處理裝置的靜電物體夾具的方法，該方法包括以下步驟：提供具有電介質襯底的電極；通過交替沉積以下層在電介質襯底的頂表面上沉積涂層：一個或多個導電基礎層，以及一個或多個導電保護層；以及激光燒蝕涂層以在涂層中形成一...

公開了用于利用帶電粒子束來輻射樣本的系統和方法。帶電粒子束系統可以包括平臺，平臺被配置為保持樣本并且能夠在X?Y?Z軸中的至少一個軸上移動。帶電粒子束系統還可以包括用于確定平臺的橫向位移和豎直位移的定位感測系統以及束偏轉控制器，束偏轉控...

公開了一種裝置以及這種系統的組件，該裝置適于遞送熔融靶材料(諸如錫)，該熔融靶材料將在極紫外輻射的源中被輻射并被轉化，其中該組件被暴露于處于壓力下的熔融靶材料，組件諸如過濾器的外殼，熔融靶材料通過的過濾器的外殼包括兩種難熔金屬(例如，鉬...

本文公開了用于在光刻設備中使用的表膜支撐系統，所述系統包括：表膜；表膜支撐件，其被布置成相對于圖案形成裝置的表面固定所述表膜，使得在所述表膜與所述圖案形成裝置之間限定封閉區域；和至少一個管道，其被布置成向所述封閉區域供應流體以增加所述封...