現(xiàn)行的技術(shù)通常被配置為按順序測(cè)量量測(cè)目標(biāo)。過(guò)程時(shí)間用于加速和減速系統(tǒng)組件，以從一個(gè)目標(biāo)移動(dòng)到另一個(gè)目標(biāo)。最近的并行測(cè)量系統(tǒng)包括傳感器陣列，這些傳感器被布置成與襯底上的量測(cè)目標(biāo)布局匹配。然而，與現(xiàn)有技術(shù)相比，此類系統(tǒng)的組件使其龐大而復(fù)雜，...

本文中公開(kāi)了一種用于浸沒(méi)式光刻設(shè)備的流體處理結(jié)構(gòu)。流體處理結(jié)構(gòu)被配置為將浸沒(méi)流體容納到區(qū)域。流體處理結(jié)構(gòu)在空間的邊界處具有：被配置為將浸沒(méi)流體供應(yīng)到空間的至少一個(gè)開(kāi)口；被配置為從該空間中提取浸沒(méi)流體的提取器組件；相對(duì)于該空間在提取器組件...

一種消音器，所述消音器被配置成使熱調(diào)節(jié)流體導(dǎo)管中的熱調(diào)節(jié)流體中的聲波消音，并且所述消音器包括：敞開(kāi)式入口，所述敞開(kāi)式入口被配置成連接至所述熱調(diào)節(jié)流體導(dǎo)管以與所述熱調(diào)節(jié)流體導(dǎo)管中的所述熱調(diào)節(jié)流體進(jìn)行流體連通；消音器殼體，所述消音器殼體包括...

本文描述了用于確定圖案的特征之間的套刻的系統(tǒng)和方法。該方法包括獲得具有多個(gè)特征的圖像的表示。不包含對(duì)應(yīng)設(shè)計(jì)布局中限定的任何目標(biāo)特征的圖像的上下文區(qū)域被確定，并且特征的套刻基于上下文區(qū)域的特性來(lái)確定。套刻與使用基于圖像的非上下文區(qū)域的另一...

披露了一種預(yù)測(cè)光刻設(shè)備的性能的方法。所述方法包括：提供與已由所述光刻設(shè)備在一個(gè)或更多個(gè)襯底上曝光的多個(gè)場(chǎng)相關(guān)的校準(zhǔn)數(shù)據(jù)，其中，場(chǎng)曝光時(shí)間、或相關(guān)參數(shù)針對(duì)所述多個(gè)場(chǎng)中的至少兩個(gè)所述場(chǎng)而變化；基于所述校準(zhǔn)數(shù)據(jù)來(lái)生成性能模型；以及使用所述性能...

本發(fā)明涉及一種帶電粒子光學(xué)板，用于帶電粒子光學(xué)裝置，該帶電粒子光學(xué)裝置用于將帶電粒子束沿束路徑投射到樣品位置。帶電粒子光學(xué)板，包括：具有晶體結(jié)構(gòu)的襯底，所述晶體結(jié)構(gòu)具有晶體對(duì)稱線；多個(gè)通道，被配置用于使束柵格的多個(gè)束路徑穿過(guò)所述襯底；以...

描述了一種簡(jiǎn)化用于對(duì)襯底成像的量測(cè)系統(tǒng)的光學(xué)部件陣列替換。更便宜且光學(xué)上相對(duì)簡(jiǎn)單的光學(xué)部件陣列取代了用于成像和/或其他量測(cè)操作的典型光楔。在一些實(shí)施例中，陣列中的光學(xué)部件中的兩個(gè)光學(xué)部件被配置為在輻射傳感器上的兩個(gè)不同成像位置中創(chuàng)建兩個(gè)...

一種用于光刻設(shè)備中的掩模版臺(tái)夾具的掩模版臺(tái)清潔設(shè)備，包括：基板，所述基板具有前側(cè)和與所述前側(cè)相反的背側(cè)；和導(dǎo)電層，所述導(dǎo)電層設(shè)置在所述基板的所述前側(cè)上。所述導(dǎo)電層被配置成接觸所述掩模版臺(tái)夾具以消散所述掩模版臺(tái)夾具上的電荷且經(jīng)由在所述導(dǎo)電...

公開(kāi)了一種用于對(duì)襯底區(qū)域上的測(cè)量數(shù)據(jù)進(jìn)行建模的方法和相關(guān)聯(lián)的設(shè)備。該方法包括：獲得描述襯底參數(shù)的空間變化的襯底測(cè)量數(shù)據(jù)；以及將模型擬合到所述襯底測(cè)量數(shù)據(jù)以獲得經(jīng)擬合的模型；其中，所述擬合步驟包括使用多個(gè)正則化參數(shù)來(lái)正則化擬合，所述多個(gè)正...

一種用于確定襯底高度測(cè)量誤差的方法，所述方法包括：提供在給定頻率下被調(diào)制的激光束，所述激光束具有波長(zhǎng)和偏振；以相對(duì)于從所述襯底延伸的法線的銳角將經(jīng)調(diào)制的激光束引導(dǎo)至所述襯底上；檢測(cè)經(jīng)調(diào)制的激光束在所述經(jīng)調(diào)制的激光束已經(jīng)從所述襯底反射之后...

一種裝配EUV透射屏障的方法，所述EUV透射屏障包括：薄膜組件和框架。所述薄膜組件包括處于拉伸應(yīng)力下的薄膜和圍繞所述薄膜的周邊延伸的邊框。所述方法包括：使所述邊框承受力和/或使所述框架承受力；通過(guò)設(shè)置在所述邊框與所述框架之間的膠使所述邊...

本公開(kāi)提供了一種用于提供氣體流出流的噴嘴，所述噴嘴包括：主通道；所述主通道在所述主通道的下游端處通向至少一個(gè)流量限制區(qū)段，每個(gè)流量限制區(qū)段具有用于產(chǎn)生均勻氣體流的多個(gè)平行葉片；所述至少一個(gè)流量限制區(qū)段通向相應(yīng)流出區(qū)段，所述相應(yīng)流出區(qū)段具...

本發(fā)明提供了一種用于在真空環(huán)境中使用的管狀聲阻尼裝置，該管狀聲阻尼裝置包括：包括粘彈性材料的內(nèi)導(dǎo)管，內(nèi)導(dǎo)管具有要被連接到液體入口的第一端和要被連接到液體出口的第二端；包圍內(nèi)導(dǎo)管的外殼，外殼由氣密材料制成，其中環(huán)形阻尼空間被形成在內(nèi)導(dǎo)管與...

公開(kāi)了一種照射配置模塊，包括：包括交替的第一反射區(qū)和第二反射區(qū)的有源區(qū)，上述第一反射區(qū)和上述第二反射區(qū)包括在上述第一反射區(qū)與上述第二反射區(qū)之間的、在垂直于上述有源區(qū)的方向上的可配置位移，從而選擇性地形成用于選擇性地衍射入射到上述有源區(qū)上...

檢測(cè)模塊包括相敏放大器(PSA)和檢測(cè)器。PSA接收從襯底的表面上的目標(biāo)衍射的源信號(hào)。PSA還接收泵信號(hào)。PSA基于泵信號(hào)與源信號(hào)之間的相位發(fā)送放大信號(hào)。檢測(cè)器接收放大信號(hào)，并且基于放大信號(hào)確定目標(biāo)的對(duì)齊位置。

本文中描述了一種確定待印制在襯底上的目標(biāo)圖案的掩模圖案的方法。該方法包括：參考目標(biāo)圖案上的給定位置，將包括目標(biāo)圖案的設(shè)計(jì)布局的一部分劃分成多個(gè)單元；在多個(gè)單元中的特定單元內(nèi)分配多個(gè)變量，特定單元包括目標(biāo)圖案或目標(biāo)圖案的一部分；以及基于多...

公開(kāi)了一種用于確定結(jié)合襯底疊層的對(duì)準(zhǔn)的方法、襯底疊層和光刻設(shè)備。所述結(jié)合襯底疊層至少包括第一襯底和第二襯底，所述方法包括：照射復(fù)合對(duì)準(zhǔn)結(jié)構(gòu)，所述復(fù)合對(duì)準(zhǔn)結(jié)構(gòu)包括所述第一襯底上的第一衍射結(jié)構(gòu)和所述第二襯底上的第二衍射結(jié)構(gòu)；以及基于從對(duì)所述...

一種消音器，被配置為使熱調(diào)節(jié)流體管道中的熱調(diào)節(jié)流體中的聲波消音。消音器包括：開(kāi)放入口，被配置為連接到熱調(diào)節(jié)流體管道以與熱調(diào)節(jié)流體進(jìn)行流體連通；消音器殼體，包括連接到開(kāi)放入口的內(nèi)腔；順應(yīng)性構(gòu)件，被布置在內(nèi)腔中，其中順應(yīng)性構(gòu)件將內(nèi)腔分成熱調(diào)...

描述了多層量測(cè)系統(tǒng)和方法。現(xiàn)有技術(shù)被配置為測(cè)量量測(cè)目標(biāo)的底部光柵(例如，套刻目標(biāo)的單層光柵)，從而僅相對(duì)于半導(dǎo)體層堆疊體中的另一層來(lái)確定層(n)的參考位置。根據(jù)產(chǎn)品或?qū)樱鞠到y(tǒng)和方法被配置為促進(jìn)層n在層n?1或?qū)觧?2上的對(duì)準(zhǔn)(或這兩者...

一種用于訓(xùn)練機(jī)器學(xué)習(xí)模型以產(chǎn)生預(yù)測(cè)的被測(cè)量圖像的方法，包括：獲得（a）與參考設(shè)計(jì)圖案相關(guān)聯(lián)的輸入目標(biāo)圖像，和（b）與印制于襯底上的指定設(shè)計(jì)圖案相關(guān)聯(lián)的參考測(cè)量圖像，其中所述輸入目標(biāo)圖像與所述參考測(cè)量圖像為未對(duì)準(zhǔn)的圖像；和通過(guò)硬件計(jì)算機(jī)系...