本文公開了一種用于光刻設備的流體處理系統，其中，所述流體處理結構被配置成將液體至少部分地限制到所述光刻設備的投影系統的最終光學元件與襯底之間的浸沒空間，所述光刻設備的投影系統被配置成將經圖案化的束投影在所述襯底上，所述流體處理結構包括：...

描述了用于半導體量測系統的參考光柵。參考光柵具有能夠改變的節距，所述能夠改變的節距被改變以匹配半導體晶片中的量測目標的節距。參考光柵被配置成與目標光柵同時接收輻射，并且輻射傳感器被配置成基于從目標光柵和參考光柵接收的衍射輻射來產生量測信...

本文描述了一種量測系統和用于經由經訓練的機器學習（ML）模型轉換量測數據的方法。所述方法包括：訪問由第一掃描電子量測（SEM）系統獲取的第一SEM數據集（例如圖像、輪廓燈）和由第二SEM系統獲取的第二SEM數據集，其中所述第一SEM數據...

一種流體處理系統，包括配置成將液體至少部分限制在最終元件與襯底之間的浸沒空間的流體處理結構，其中，所述流體處理結構包括：多個氣刀隔室和多個氣體供應隔室，其中，至所述氣刀隔室和所述氣體供應隔室中的每個的氣體流量可以由對應的可變流量閥單獨地...

一種軸承，包括：支撐件；和多個軸承表面。軸承表面由支撐件支撐，并被配置為至少部分地限定用于接收軸的孔，該孔具有關于孔的形心的有限階旋轉對稱性。軸承表面中的至少一些被配置為能夠相對于支撐件獨立地移位，以允許被接收在孔中的軸繞與軸的標稱軸線...

一種計算機程序產品，包括其中具有指令的計算機可讀介質，該指令在由計算機系統執行時被配置為使該計算機系統至少：基于所獲得的對襯底的一個或多個核查區域的第一掃描，生成一個或多個核查區域的表面的表面圖；計算每個核查區域的表面圖的一個或多個關鍵...

提供了一種用于光刻系統的量測設備，該量測設備包括：多個可獨立移動的指狀件，其被配置為控制圖案形成裝置的被照射區域的形狀，其中可獨立移動的指狀件中的一個或多個包括一個或多個反射表面；和一個或多個輻射傳感器；其中一個或多個可獨立移動的指狀件...

一種用于生成極紫外（EUV）輻射的系統包括源容器、源激光器和加熱氣體傳遞裝置（336），源容器具有內部容積，源激光器被配置為生成光，光沿著光軸在入射光方向上進入內部容積，以向目標提供能量，從而引起內部容積內EUV的生成，加熱氣體傳遞裝置...

用于檢查樣品的系統和方法。系統和方法可以包括確定樣品上的多個位置，每個位置對應于視場（FOV）中樣品上的檢查特征；將一個或多個帶電粒子束提供給樣品，每個帶電粒子束被提供給多個位置中的對應位置；針對每個位置，檢測由對應位置的充電引起的一個...

本發明提供了一種將樣品裝載到樣品位置的方法。該方法包括將具有初始電壓的樣品裝載到樣品處置器上；當樣品在樣品處置器上時，使樣品的電壓從初始電壓斜升到預定電壓；當樣品處于預定電壓時，將樣品從樣品處置器轉移到樣品保持器的樣品位置，其中樣品保持...

公開了一種改進的粒子束檢查裝置，并且更特別地公開了一種包括非接觸式溫度傳感器的粒子束檢查裝置，該非接觸式溫度傳感器用于準確地測量晶圓溫度而沒有污染風險。帶電粒子束裝置可以使用溫度可調整校準墊來校準非接觸式溫度傳感器，然后使用經校準的非接...

提供了激光產生等離子體源的源容器，該容器包括收集器區域和中間焦點（IF）區域，其中該容器被配置為提供至少兩個不同溫度區，其中包括IF區域的溫度區比包括收集器區域的溫度區更熱。還提供了包括這樣的源容器的光源和EUV利用系統。還描述了用于控...

公開了確定代表性照射輪廓以用于執行對曝光設備的合格評定動作的、計算機實現的方法。方法包括：獲得針對多個照射輪廓的像差靈敏度數據，所述像差靈敏度數據利用與所述多個照射輪廓中的每個相應不同的照射輪廓相關聯的像差來描述曝光誤差指標的靈敏度；根...

一種系統和方法用于諸如掃描電子顯微鏡等帶電粒子束系統中的像差檢測。所述方法使用檢測器表面上的帶電粒子到達事件的所述入射位置的空間信息來確定樣品上的所述入射束的特性。通過輻照樣品上平坦、開放的表面區，諸如束傾斜、散焦、球面像差、色差、慧差...

一種用于原位清潔光刻設備的夾具的系統，該系統包括：主體，該主體被配置為插入光刻設備中并與夾具接合，其中清潔特征布置在主體的面向夾具的表面上；夾具的移動系統；以及控制系統；其中控制系統被配置為：控制夾具以使用第一夾持力來使主體與夾具接合；...

披露了一種量測方法，包括：獲得與對在襯底上的一個或更多個結構的測量相關的量測數據，所述量測數據包括多個數據元素，并且其中，至少一些所述數據元素包括復數值；為所述多個數據元素的每個相應數據元素或其子集選擇相應的信號類型，以獲得經處理的量測...

公開了用于缺陷檢查的系統和方法，缺陷檢查包括與樣品相關聯的缺陷檢測和缺陷分類。用于缺陷檢查的方法包括使用帶電粒子束系統獲取晶片的區域的掃描檢查圖像，并且基于晶片的區域的掃描參考圖像來訓練深度學習模型。經訓練的深度學習模型被配置為檢測獲取...

公開了輻射調制設備，輻射調制設備可操作為接收經光譜色散的寬帶輸入輻射，并且將經光譜色散的寬帶輸入輻射的至少部分選擇性地透射、衍射或者反射以獲得經光譜配置的輻射，其中輻射調制設備包括多個個體可配置元件，多個個體可配置元件各自包括至少一個可...

一種用于在軌道與襯底處理設備的處理單元之間交換襯底的軌道接口，包括：第一傳送單元和第二傳送單元，其被配置成將襯底沿對應的第一裝載傳送路徑和第二裝載傳送路徑從軌道經由一個或更多個襯底軌道接收站傳送至處理單元和將襯底沿對應的第一卸載傳送路徑...

一種光刻裝置包括投射系統和檢查系統，檢查系統包括輻射系統、光子集成電路系統和檢測器系統。投射系統將圖案形成設備的圖像投射到襯底上。輻射系統朝向襯底上的目標引導輻射，以從目標生成散射輻射。輻射系統包括用于生成輻射的輻射源和用于將輻射聚焦到...