一種用于控制表膜隔膜的組件，所述組件包括：至少一個磁性元件，所述至少一個磁性元件被配置成提供磁場；和導電表膜隔膜，所述導電表膜隔膜能夠電連接至電壓源且被配置成在預定方向上傳導電流，其中，所述至少一個磁體和導電表膜隔膜被配置成使得施加電位...

一種光刻系統，包括光刻設備和輻射源，其中，所述輻射源包括能夠操作以在等離子體形成區處提供燃料目標的燃料發射器，并且所述輻射源還包括能夠操作以提供激光束的激光系統，所述激光束入射到所述燃料目標上以產生用于曝光襯底的EUV輻射，其中，所述激...

對光刻設備、量測設備和/或其他設備的光學系統的校正和/或其他調整通?；趤碜韵惹爸圃旌?或量測操作的信息、所述光刻和/或量測系統和/或過程的用戶經驗、基礎光學物理原理和/或其他信息。有利地，本系統和方法使用強化學習來優化數十、數百、數千...

一種確定光刻設備的投影系統的像差的方法包括：照射位于投影系統的物平面中的掩模光柵，在傳感器光柵處形成掩模光柵的圖像，使用檢測器檢測所得到的干涉圖案并且輸出測量強度信號；使用波前擬合算法來對測量強度信號進行擬合并且獲得像差的估計，該算法包...

一種用于確定針對襯底的高度輪廓的校正的方法，包括：將襯底固定到襯底保持器；獲取第一高度輪廓的第一測量值；將襯底繞表面的全局法線旋轉；獲取第二高度輪廓的第二測量值；針對襯底保持器的形狀，校正第一測量值和第二測量值，以分別確定第一經校正測量...

本文描述了用于預測掩模圖案的二維元件表示的方法和系統。向預測模型提供與目標圖案相對應的輸入掩模圖案。所述預測模型生成與所述輸入掩模圖案相對應的輸出掩模圖案的二維元件表示。所述二維元件表示包括表示所述輸出掩模圖案的掩模特征的多個二維元件，...

用于在整體圓柱形的襯底支撐件上使用的加熱器組件，加熱器包括：第一加熱器區段，第一加熱器區段被配置為固定到襯底支撐件的圓周表面；以及第二加熱器區段，第二加熱器區段被配置為固定到襯底支撐件的圓周表面；其中第一加熱器區段的第一端部和第二加熱器...

一種用于被配置成放大激光束的光學放大器的設備，包括：放大腔室；渦流誘導器；和一對電極。所述放大腔室是大致管的形式。所述渦流誘導器被布置成在流體被泵送通過所述放大腔室時在所述流體中誘導渦流，以便誘導通過所述放大腔室的大致螺旋狀流體流。所述...

本發明涉及一種用于處理襯底的方法，該方法包括：a）在支撐件上提供襯底；b）測量襯底和/或沖洗液的特性；c）基于該測量來控制一種或多種添加劑向沖洗液中的添加，以將沖洗液的pH值和/或電導率調節到預定值；以及d）經由一個或多個噴嘴向襯底的第...

本公開涉及用于電子束圖像增強的全自動SEM采樣系統。本文中公開了一種自動獲取訓練圖像以訓練提高圖像質量的機器學習模型的方法。該方法可以包括分析與產品的布局相關的數據的多個圖案，以標識產品的樣品上的多個訓練位置，用以與訓練機器學習模型相關...

本文公開了一種未接地樣本的帶電粒子束檢查的方法，包括：開始用第一束帶電粒子對樣本的區域預充電；在晚于開始對該區域預充電的時間，開始用第二束帶電粒子對該區域成像；其中該區域電未接地。從該區域的圖像中，可以標識缺陷。

公開了一種照射配置模塊，包括：輻射調制設備，能夠操作以在有源區上接收光譜色散的寬帶輸入輻射，并且選擇性地衍射所述光譜色散的寬帶輸入輻射的衍射部分，以獲取包括期望衍射輻射和干擾衍射輻射的光譜配置輻射；以及至少一個光譜濾波器，能夠操作以基本...

一種獲取對于襯底形貌測量的校準的方法，該方法包括：對于校準襯底上的多個位置中的每個位置：在該位置處獲取校準襯底高度參考值；以及在該位置處獲取多個校準襯底高度測量值，每個校準襯底高度測量值對應于校準襯底在該位置處的表面的測量，其中多個位置...

一種設備包括：極紫外（EUV）光源的腔室的部件，部件包括至少一個暴露表面；以及清潔設備，被配置為從部件的暴露表面移除目標碎屑，而不將部件與腔室分離。清潔設備包括：一個或多個表面波等離子體（SWP）生成器，其中每個SWP生成器被設置在形成...

本公開提供了一種用于物體臺的阻尼器，所述阻尼器包括：一對板，限定在它們之間的體積；多個柱體，被設置在所述體積中并且在所述一對板之間延伸；以及彈性區段，包圍所述柱體并且在所述板之間延伸。所述柱體可以被均勻地分布在所述體積之上。所述阻尼器可...

提供了一種減少堆積在輻射源的洗滌器內的表面上的副產物的系統和方法。該系統和方法通過使該表面的溫度在靶材的熔化溫度上下循環，或者控制該表面的溫度分布，使得在一個時間處僅該表面的部分被加熱到高于靶材的熔化溫度的溫度。

公開了一種使用檢查工具用計算模型進行掃描來標識晶片上的位置的方法。更具體而言，公開了一種將量測數據和上下文數據相關聯以插補訓練以及應用用于引導檢查的計算模型所必需的缺失量測數據的方法。公開了一種計算概率預測模型，以生成具有改進的準確性和...

描述了使用基于顯微鏡的傳感器測量套刻。這提供了利用單個系統測量對準和套刻的能力以及其他優點。來自傳感器的信號是強度調制條紋圖案（例如干涉圖案）。傳感器被配置為基于從圖案化襯底的第一層中的第一量測標記和圖案化襯底的第二層中的第二量測標記接...

一種用于用帶電粒子掃描樣品并且檢測從樣品發射的信號帶電粒子的帶電粒子光學裝置，帶電粒子光學裝置包括：帶電粒子光學設備，被配置為將帶電粒子束引導到樣品的視場上；包括多個檢測器元件的檢測器，檢測器元件被配置為檢測從視場內的相應位置發射的信號...

用于在光刻設備中使用的組件，組件包括：熱調節板，熱調節板包括內部通道網絡，內部通道網絡用于使制冷劑在內部通道網絡中流動；以及多個超導線圈，多個超導線圈用于使臺在多個超導線圈上磁懸浮并且線性地移位，其中多個超導線圈與熱調節板的外表面熱接觸。