一種用于提高SXR量測的準確度的方法，包括：獲得第一衍射光譜，所述第一衍射光譜包括多個周期性離散峰并且與已經利用第一源光譜照射的目標結構相關；獲得第二衍射光譜，所述第二衍射光譜與已經利用第二源光譜照射的目標結構相關，所述第二源光譜與所述...

一種用于管芯的支撐結構，包括：附接連接件陣列，被配置為保持管芯致動器，該管芯致動器中的每個管芯致動器由至少一個附接連接件保持；以及控制器連接陣列，被配置為與管芯致動器進行接口連接以控制管芯致動器的移動，其中控制器連接陣列被散布在附接連接...

公開了一種量測方法，包括：獲得與靶的測量相關的量測數據，該靶包括至少第一層中的第一光柵和第二層中的第二光柵，其中第一光柵具有以第一起始節距開始的第一啁啾節距，并且第二光柵具有以第二起始節距開始的第二啁啾節距，第一光柵與第二光柵基本上重疊...

公開了一種改進的帶電粒子束檢查裝置，更具體公開了一種用于檢測薄型器件結構的缺陷的粒子束檢查裝置。束檢查裝置包括：帶電粒子束源，其用于在時間序列上將帶電粒子引導到晶片的受檢查的位置處；以及控制器，該控制器被配置為在時間序列上的不同時間對晶...

一種襯底高度測量設備，包括：懸臂，該懸臂從主體延伸并具有設置在遠端的大致球形的尖部，其中大致球形的尖部和懸臂具有導電涂層；調制系統，被配置為對襯底臺應用周期性位置調制；電壓源，被配置為向懸臂和大致球形的尖部施加DC電壓和周期性電壓調制；...

本公開涉及靜電夾具裝置，靜電夾具裝置包括：夾具構件，夾具構件包括至少一個電極和第一導電層；安裝構件，安裝構件包括第二導電層，夾具構件被安裝在第二導電層上；以及介電層，介電層被夾在第一導電層與第二導電層之間。

本文中描述一種確定光刻系統內的輻射束的性質的方法。所述方法包括針對所述輻射束的在第一方向上具有不同位置的多個區段中的每個區段來測量多個強度。使用傳感器的多個感測元件中的不同的一個感測元件來測量所述多個強度中的每個強度。所述多個強度中的每...

一種光刻設備，包括：照射系統，被配置為將輻射束引導到圖案形成裝置上以生成圖案化的輻射束，所述圖案形成裝置包括在襯底的曝光期間待遮蔽的區域；支撐結構，被配置為支撐所述襯底；投影系統，被配置為將所述圖案化的輻射束投影到所述襯底上；以及掩模裝...

靜電夾具裝置包括：夾具構件，夾具構件包括主體，主體限定多個夾具單元；其中每個夾具單元包括：主體的至少兩個凸起支撐部，至少兩個凸起支撐部在它們之間限定了凹部；以及靜電板，靜電板被定位在凹部中，其中靜電板包括電極和介電層；以及致動器，致動器...

本公開提供一種用于襯底邊緣曝光的系統，包括：支撐臺，所述支撐臺用于支撐襯底且具有位于中心的開口，其中，所述支撐臺被配置成熱調節所述襯底；可旋轉支撐單元，所述可旋轉支撐單元能夠在豎直方向上移動穿過所述支撐臺的所述位于中心的開口；傳感器，所...

一種計量方法，包括獲得襯底上的第一層中的第一結構的第一絕對位置度量以及所述襯底的第二層中的第二結構的第二絕對位置度量；以及根據所述第一絕對位置度量和所述第二絕對位置度量確定以下一項或多項：曝光引起的第一層圖案位移，描述由所述結構的曝光而...

提供了一種被配置為支撐對象的對象保持器，對象保持器包括具有多個支撐元件的支撐表面，該支撐元件包括金屬－Si多層、金屬－Ge多層以及/或者氮化鉻層，以經由金屬－Si多層、金屬－Ge多層以及/或者氮化鉻層的熱處理來提供各個支撐元件的可選擇性...

一種用于測量來自組合輻射的EUV輻射的能量的傳感器，該組合輻射包括EUV輻射和非EUV輻射，傳感器（20）包括：輻射吸收器（21），其被配置為經由輻射吸收器的表面（40）吸收源自組合輻射（15）的輻射；第一反射器（30；31），其對EU...

本公開提供了一種校準襯底輸送裝置的方法，所述襯底輸送裝置包括：第一襯底支撐件和第二襯底支撐件、與所述第一襯底支撐件相關聯的第一機器人臂、以及與所述第二襯底支撐件相關聯的第二機器人臂，其中，所述第一襯底支撐件設置有第一傳感器，所述第一傳感...

本發明提供了磁阻致動器，磁阻致動器被配置為在對象上施加基本上向上的力，對象可通過定位裝置的移動器在水平方向上移位，磁阻致動器包括：第一構件，第一構件被配置為連接到對象；第二構件，第二構件被配置為連接到移動器，第一構件和第二構件形成磁通路...

提供了一種被配置為支撐物體的物體固持器，該物體固持器包括具有多個支撐元件的支撐表面，其中多個支撐元件包括被配置為提供個體支撐元件的選擇性變化高度的可逆變化的晶相/非晶相材料。還提供了一種包括這種物體固持器的載物臺、一種包括這種物體固持器...

披露了一種確定與機器相關的維修動作歷史的計算機實施方法。所述方法包括：獲得包括在一時間段內與機器相關的事件和/或觀察的事件數據；和獲得多個候選維修動作。執行過程挖掘操作以將所述事件數據與所述多個候選維修動作匹配和/或比較。將所述多個候選...

本發明提供一種密封系統。該系統包括真空室的至少一部分和印刷電路板，在該真空室中限定有開口。印刷電路板包括用于暴露于大氣環境的第一部分、以及與第一部分相鄰的用于暴露于真空環境的第二部分。第二部分被配置為至少部分地覆蓋真空室中的開口。第一部...

本文公開一種襯底支撐件（200），所述襯底支撐件被配置成支撐襯底（W），所述襯底支撐件包括：上表面（225）；多個支撐構件（241），所述多個支撐構件在所述上表面上方延伸；抽取槽溝（230），所述抽取槽溝由第一周向壁和第二周向壁限定，其...

光刻和/或其它設備中的對準校正和/或其它調整通常假定空間上均勻材料被用于諸如掩模版之類的圖案形成裝置。然而，實際上，在半導體處理期間，跨越圖案形成裝置（例如，掩模版）的熱膨脹系數和/或其它熱機械性質存在局部差異。有利地，本系統和方法基于...