本文公開了一種用于襯底支撐件的蓋環，所述蓋環包括：柔性結構，具有用于容置襯底的開口；所述蓋環內的封閉區域；以及流體導管，被配置為向所述封閉區域提供流體和/或從所述封閉區域接收流體；其中所述柔性結構被配置為響應于流入所述封閉區域的流體流或...

本發明提供了一種流體輸送系統，該流體輸送系統包括：?第一氣體消聲器、第二氣體消聲器，以及?包括由粘彈性材料制成的導管的管狀聲阻尼裝置，其中第一氣體消聲器和第二氣體消聲器通過流體管線被彼此流體連接，其中管狀聲阻尼裝置在流體管線中被設置在第...

一種用于光刻系統的流體處理系統，包括：液體供應件，所述液體供應件被配置成供應浸沒液體以填充介于襯底與所述光刻系統的投影系統之間的浸沒空間的至少一部分，其中所述投影系統被配置成將經圖案化的輻射束投影到所述襯底上；氣體供應件，所述氣體供應件...

一種襯底存儲模塊，襯底存儲模塊用作光刻設備的組成部分，襯底存儲模塊包括：用于保護多個襯底免受環境空氣的影響的可控環境。該襯底存儲模塊包括多個襯底支撐件，用于接收襯底；以及真空系統，真空系統流體聯接到多個襯底支撐件。真空系統被配置為獨立地...

一種光子晶體光纖（10），包括芯部區和環繞所述芯部區的包覆區。所述芯部區和所述包覆區包括具有第一折射率的材料（12），所述包覆區另外包括從所述光纖的輸入端沿所述光纖的縱向軸線延伸至所述光纖的輸出端的多個微結構（14），所述多個微結構（1...

公開了一種用于從晶片臺的表面去除材料的工具和一種形成用于從晶片臺的表面去除材料的工具的方法。該工具包括卡盤和被設置在卡盤的至少一個表面上的研磨層。研磨層的表面包括共價鍵合到研磨層表面的原子，使得研磨層抵抗由被去除的材料引起的堵塞。該方法...

公開了一種確定基板上應力源的存在的方法。該方法包括：獲取描述基板上的結構在基板平面中的位置信息的基板位置數據；獲取描述基板的形狀的基板形狀數據；根據基板位置數據確定第一翹曲值，第一翹曲值描述基板的翹曲；根據基板形狀數據確定第二翹曲值，第...

一種具有靜電夾具系統的光刻設備，包括：多個電極，所述多個電極被配置成對部件施加靜電夾持力；電源，所述電源連接至所述多個電極；以及控制器，所述控制器被配置成控制被施加至所述多個電極的電位以與所述光刻設備中的輻射脈沖的生成同步地在第一模式與...

本發明提供一種用于光刻裝置的電磁致動器中的待流體冷卻的線圈，該線圈包括：線圈，由多個電絕緣的扁平線線圈導體形成，并且被配置為在使用期間傳導電流以生成電磁場，以及至少一個與線圈導熱接觸的冷卻流體通道，用于引導冷卻流體流以從線圈帶走熱量，其...

公開了一種用于生成檢查工具采樣計劃的方法。更具體地，公開了一種用于生成檢查工具采樣計劃的方法，用于假定晶片上的不均勻缺陷密度或分布的情況下進行更精確的管芯損失預測。公開了一種用于優化檢查工具采樣計劃的方法。更具體地，公開了一種用于優化晶...

公開了用于在光刻過程中對與襯底相關的襯底區域上的量測數據進行建模的方法。該方法包括：獲得第一層模型數據，該第一層模型數據與被擬合到用于該襯底上的第一層的曝光的第一層量測數據和與該襯底上的第二層相關的第二層量測數據的第一模型相關，該第二層...

公開了一種執行用于檢測計算模型行為的變化的方法的裝置。該方法包括監測時間間隔內所選樣本特征對缺陷管芯概率評估的貢獻，確定所選樣本特征的貢獻是否超過時間間隔內的漂移閾值，以及基于超過漂移閾值的確定，重新訓練計算模型。

公開了一種與襯底上的結構的測量相關的量測方法，該結構經歷過程變化。該方法包括：獲得第一測量數據，該第一測量數據與已經從一個或多個標記散射的測量輻射的相位相關并且與多個測量條件相關；獲得第二測量數據，該第二測量數據與所述測量輻射的強度相關...

一種光刻裝置，包括照射系統、圖案化系統、投射系統和掩模版臺。照射系統產生輻射的束。圖案化系統將圖案賦予在該束上。圖案化系統包括掩模版。投射系統將圖案化的束投射在襯底上。掩模版臺包括用于支撐掩模版的掩模版夾具和用于支撐掩模版夾具的卡盤?？?..

一種用于寬帶生成的空芯光纖和源組件，其中所述空芯光纖的中空芯部被填充有包括工作氣體的氣體成分。光纖被配置為在空芯光纖的輸入端接收脈沖泵浦輻射，脈沖泵浦功率的脈沖功率超過氣體成分的電離閾值。光纖被配置為通過光纖限制和引導脈沖泵浦輻射，使得...

本發明提供了一種確定電磁馬達的位置相關馬達常數的方法，所述電磁馬達包括磁體組件和線圈組件，所述磁體組件和所述線圈組件被配置為在移動方向上相對于彼此移位，所述方法包括：使所述磁體組件相對于所述線圈組件以基本上恒定的速度在所述移動方向上沿著...

一種寬帶輻射裝置，包括HC?PCF，所述HC?PCF包括：中空芯部，所述中空芯部沿所述HC?PCF的長度延伸，以用于在使用中限制處于一壓力下的工作介質；輸入端，所述輸入端能夠操作以接收脈沖式泵浦輻射；和輸出端，所述輸出端能夠操作以發射寬...

用于對檢查工具進行校準的系統、裝置和方法。系統、裝置和方法可以包括在可替換參考樣品被固定到成像系統的臺之后：基于成像系統對參考樣品的掃描來對成像系統的參數進行校準；以及在對成像系統的參數進行校準之后，對樣品進行掃描，5其中樣品包括參考樣...

一種消音器被配置成在目標頻率下使熱調節流體中的聲波消音。所述消音器包括：敞開式入口，所述敞開式入口連接至熱調節流體導管以與所述導管中的所述熱調節流體進行流體連通；封閉端，所述封閉端用于反射所述熱調節流體中的所述聲波；以及消音器導管，所述...

公開了一種用于確定用于在光刻過程中將圖案成像在襯底上的光瞳輪廓的方法和系統。獲得指示遍及光瞳平面的光刻性能變化與源變化之間的關系的數據，基于該數據優化第一光瞳輪廓以生成第二光瞳輪廓。第二光瞳輪廓是與可以用于使用光刻設備將圖案印制在襯底上...