本文描述了訓練與圖案化過程相關的機器學習模型的不同方法。本文描述了一種用于訓練被配置成預測掩模圖案的機器學習模型的方法。該方法包括獲得：（i）圖案化過程的被配置成預測襯底上的圖案的過程模型，其中該過程模型包括一個或更多個經訓練的機器學習...

一種光刻設備，包括：圖案形成裝置；第一定位器，所述第一定位器用于定位圖案形成裝置支撐件；襯底支撐件；第二定位器，第二定位器用于定位襯底支撐件；以及投影系統，投影系統被配置成將輻射束從圖案形成裝置投影至襯底上，其中，圖案形成裝置支撐件、第...

一種用于激光產生等離子體輻射源的模塊，包括：第一光學器件；第二光學器件；以及反向束監測設備。所述第一光學器件被布置成接收具有第一波長的第一輻射束和具有第二波長的第二輻射束，并且引導所述第一輻射束和所述第二輻射束以形成沿公共光學路徑朝向所...

公開了多帶電粒子束檢查中的串擾消除。減少多束檢查系統中的串擾污染的操作包括：由多束檢查系統分別獲取樣品上第一區和第二區的第一圖像和第二圖像，第一圖像基于來自多束檢查系統的第一檢測區域的第一檢測信號而被生成，第二圖像基于來自多束檢查系統的...

本公開提出一種防旋轉透鏡，并將其用作具有預子射束形成機構的多射束裝置中的防旋轉聚光透鏡。防旋轉聚光透鏡在改變其電流時保持子射束的旋轉角度不變，從而使得預子射束形成機構能夠盡可能多地阻斷未使用的電子。以這種方式，多射束裝置可以以高分辨率和...

一種校準光刻系統的照射系統的方法，該方法包括：對照射系統應用已知未對準；獲取表示由照射系統生成的測量照射光瞳的測量數據；以及基于測量數據確定實際未對準。確定實際未對準可以包括：獲取表示由照射系統生成的估計照射光瞳的估計數據，所述估計照射...

本發明公開了一種用于裝載/卸載襯底的升降銷組件，該組件包括：多個支撐銷，該多個支撐銷的數目多于3個；致動器組件，該致動器組件被配置為引起多個支撐銷的移位，和控制單元，該控制單元被配置為控制多個銷的位移，以在裝載/卸載襯底時預整形襯底。

本公開提供了一種用于驅動帶電粒子檢查設備的偏轉器的偏轉器驅動器。偏轉器驅動器可以包括被配置為生成絕對值大于100V的全差分輸出的全差分放大器。其中全差分輸出可以使得偏轉器的多個偏轉器電極能夠基于全差分輸出來影響帶電粒子檢查設備的帶電粒子束。

描述了利用單個系統來測量重疊和對準。基于從量測目標接收的衍射輻射來產生傳感器輸出信號，所述量測目標具有在經圖案化的襯底的第一層和第二層中的第一量測標記和第二量測標記中具有不同部分（例如，光柵）的襯墊。各種傳感器信號被組合以用于實現利用所...

一種制造用于在中空芯部光子晶體光纖的制造過程中使用的預成型件的方法，所述方法包括：（i）提供具有中空內部結構的細長預成型件護套，所述細長預成型件護套具有第一端部和第二端部；（ii）將中空毛細管預成型件插入所述中空內部結構中，使得所述中空...

一種用于通過跨樣品掃描帶電粒子束獲得的圖像數據的數據處理方法；所述方法包括：將所述圖像數據的像素分類為前景像素和背景像素，以生成前景像素圖；以及使用稀疏矩陣編碼技術將所述前景像素圖編碼為編碼數據。

公開了一種訓練計算缺陷概率模型以使用檢查工具來引導檢查的方法。更具體地，公開了一種對來自多個器件的輸入數據進行組合，對量測數據與來自根據相同器件制造技術處理的器件的缺陷數據進行相關以訓練計算缺陷概率，以及將經訓練的計算缺陷概率模型應用于...

本公開提供一種確定用于過程和/或設備的一組機器常數和/或與所述過程和/或設備相關的所關注的模型的方法；所述方法包括：獲得與所述過程和/或設備相關的過程數據；獲得一組優化范圍，所述一組優化范圍包括針對所述一組機器常數中的每個機器常數而校準...

一種被配置成支撐襯底的襯底支撐件（1）。該襯底支撐件包括主體（10），該主體（10）具有被配置成支撐襯底的第一側和與該第一側相反的第二側。該第二側形成有多個凹槽。該多個凹槽包括多個通道（50）和多個導管（60）。該多個通道包括第一通道（...

一種新的拋光工具，包括：主支撐構件；拋光頭支撐構件；第一驅動機構；以及第二驅動機構。拋光頭支撐構件被耦合到主支撐構件，使得拋光頭支撐構件相對于主支撐構件沿第一方向和不同于第一方向的第二方向線性可移動。第一方向和第二方向可以相互正交。第一...

公開了一種制造光纖的方法，該方法包括：提供光纖制造中間產品，該光纖制造中間產品包括：（i）中空芯部坯桿，該中空芯部坯桿包括具有中空內部結構的第一護套，其中多個毛細管在中空內部結構內被熔接到第一護套；以及（ii）第二護套，該第二護套圍繞中...

描述了一種量測系統。超構表面用于替換（或增強）現有多路分解器，以減少量測系統中多路分解器的體積。超構表面被配置為接收來自輻射源的衍射輻射束，并且將該束分離成較窄帶輻射子束，與入射波長范圍、振幅、脈沖頻率、脈沖時間、一個或多個偏振態、角度...

公開了一種優化用于感興趣參數數據的權重的方法。該方法包括：獲得與光刻過程相關的感興趣參數數據和參考數據，優化權重使得對所述感興趣參數數據應用該權重改善了光刻過程在參考參數方面的性能；以及約束該優化以懲罰平均參考數據的變化。

公開了一種在曝光設備中使用的光學布置，包括：物體臺組件，被配置為保持物體并在物體的平面內移動物體；以及光學掃描組件，被配置為接收輻射束，以引導輻射束朝向物體，從而在物體的所述平面中照射物體的至少一個區域，并且隨后收集來自物體的輻射束的至...

一種傳感器設備，其可以包括瞬時光學圖案、探測束和檢測器。所述瞬時光學圖案可以被配置成引發對準標記的材料改變，由此形成有效對準標記。所述探測束可以被配置成與所述有效對準標記相互作用。所述檢測器可以被配置成測量由所述探測束產生的來自所述有效...